[发明专利]靶材组件及其制造方法有效

专利信息
申请号: 201510631227.0 申请日: 2015-09-29
公开(公告)号: CN106555161B 公开(公告)日: 2021-04-27
发明(设计)人: 姚力军;潘杰;相原俊夫;大岩一彦;王学泽;李健成 申请(专利权)人: 合肥江丰电子材料有限公司
主分类号: C23C14/34 分类号: C23C14/34
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 高静;吴敏
地址: 安徽省合肥市新站区东方大道与大禹路*** 国省代码: 安徽;34
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摘要:
搜索关键词: 组件 及其 制造 方法
【说明书】:

发明提供一种靶材组件及其制造方法,包括:提供靶坯和背板;对所述靶坯的待焊接面进行表面处理,去除表面的氧化膜;在所述靶坯和背板的待焊接面上分别涂覆焊料层;将涂覆有焊料层的靶坯和背板的待焊接面相对设置并贴合,进行焊接,形成靶材组件。本发明在待焊接面上涂覆焊料层之前,先对靶坯待焊接面进行表面处理以去除表面氧化膜,在增加靶坯活性的同时提高所述焊料层材料与所述靶坯的浸润融合能力,从而提高靶坯和背板的焊接结合率,进而提高靶材组件的良率。

技术领域

本发明涉及溅射靶材制造领域,尤其涉及靶材组件及其制造方法。

背景技术

液晶显示器(LCD)以其无辐射、省电、所占空间小等优点逐渐取代传统阴极射线显像管(CRT)显示器,现已被广泛应用到生产、生活的各个领域,比如电脑显示器、笔记本电脑、平板电脑、手机、电视、监控设备、工业控制仪表等。而且据统计显示,液晶显示器仍以每年10%以上增长以顺应市场需求。

金属靶材是液晶显示器制造中最重要的原材料之一,液晶显示器的制造普遍采用物理气相沉积工艺,在物理气相沉积过程中,电离形成的氩离子在电场的作用下加速,加速的氩离子轰击金属靶材形成大量靶材原子,溅射出的大量靶材原子沉积在基板上形成薄膜。

在溅射靶材制造领域中,靶材组件是由符合溅射性能的靶坯、与靶坯通过焊接相结合的背板构成,而在溅射过程中,靶材组件所处的工作环境比较恶劣。例如:靶材组件所处的环境温度较高,另外,靶材组件的一侧冲以冷却水强冷,而另一侧则处于高真空环境下,因此在靶材组件的相对两侧形成巨大的压力差;再者,靶材组件处在高压电场、磁场中,会受到各种粒子的轰击。在如此恶劣的环境下,如果靶材组件中靶坯与背板之间的结合率较低,将导致靶坯在受热条件下发生形变、开裂,使得溅射无法达到溅射均匀的效果,严重时,靶坯还会脱落于背板,可能对溅射机台造成损伤。因此为了确保薄膜质量的稳定性以及靶材组件的质量,对靶坯和背板的焊接结合率的要求越来越高。

但是现有技术制成的靶材组件质量和性能较低。

发明内容

本发明解决的问题是提供一种靶材组件及其制造方法,以提高靶坯和背板的焊接结合率,进而提高靶材组件的质量和性能。

为解决上述问题,本发明提供一种靶材组件的制造方法。包括:

提供靶坯和背板,所述靶坯的待焊接面为第一焊接面,所述背板的待焊接面为第二焊接面;

对所述靶坯的第一焊接面进行表面处理,去除所述第一焊接面表面的氧化膜;

对所述靶坯的第一焊接面进行表面处理之后,在所述第一焊接面上涂覆第一焊料层;

将涂覆有所述第一焊料层的第一焊接面和第二焊接面相对设置并贴合,通过焊接工艺将所述靶坯焊接至所述背板上,形成靶材组件;

冷却所述靶材组件。

可选的,所述靶坯的材料为铝。

可选的,所述靶坯的材料为纯铝,纯铝中铝的含量大于99.9999%。

可选的,所述靶材组件的制造方法还包括:在所述第二焊接面上涂覆第二焊料层。

可选的,所述第一焊料层和所述第二焊料层的材料均为铟。

可选的,对所述靶坯的第一焊接面进行表面处理的步骤包括:采用钢丝刷对所述第一焊接面进行表面处理,去除所述第一焊接面表面的氧化膜。

可选的,在所述第一焊接面上涂覆第一焊料层,在所述背板的第二焊接面上涂覆第二焊料层的步骤包括:将所述靶坯和背板置于加热板上;在所述第一焊接面和第二焊接面上放置焊料;加热所述靶坯和背板直至所述靶坯和背板的温度达到预设温度,熔化位于所述第一焊接面上和第二焊接面上放置的焊料,在所述第一焊接面上形成第一焊料层,在所述背板的第二焊接面上形成第二焊料层。

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