[发明专利]一种三氧化钨纳米薄膜的制备方法

权利要求书

1.一种三氧化钨纳米薄膜的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

步骤一、将六氯化钨溶解于无水乙醇中，搅拌均匀后得到前驱体溶液；所述前驱体溶液中六氯化钨的摩尔浓度为5mmol/L～60mmol/L；

步骤二、采用滴涂法将5μL～100μL步骤一中所述前驱体溶液滴涂于衬底表面并吹干，再将所述衬底在温度为80℃～150℃的条件下热处理3min～5min后冷却至室温；

步骤三、重复步骤二，直至所述衬底表面得到膜层；

步骤四、将步骤三中所述膜层加热至400℃～550℃高温煅烧2h～6h，高温煅烧后在衬底表面得到三氧化钨纳米薄膜。

2.按照权利要求1所述的一种三氧化钨纳米薄膜的制备方法，其特征在于，步骤四中所述高温煅烧的升温速率为6℃/min～10℃/min。

3.按照权利要求1所述的一种三氧化钨纳米薄膜的制备方法，其特征在于，步骤四中所述高温锻造的温度为400℃～450℃，时间为4h～5h。

4.按照权利要求3所述的一种三氧化钨纳米薄膜的制备方法，其特征在于，所述高温锻造的温度为450℃，时间为4h。

5.按照权利要求1所述的一种三氧化钨纳米薄膜的制备方法，其特征在于，步骤一所述前驱体溶液中六氯化钨的摩尔浓度为30mmol/L～50mmol/L。

6.按照权利要求5所述的一种三氧化钨纳米薄膜的制备方法，其特征在于，所述前驱体溶液中六氯化钨的摩尔浓度为40mmol/L。

7.按照权利要求1所述的一种三氧化钨纳米薄膜的制备方法，其特征在于，步骤二所述滴涂法的过程中采用微量移液器吸取所述前驱体溶液。

8.按照权利要求1所述的一种三氧化钨纳米薄膜的制备方法，其特征在于，步骤二中所述衬底为FTO导电玻璃。

9.按照权利要求1所述的一种三氧化钨纳米薄膜的制备方法，其特征在于，步骤四中所述三氧化钨纳米薄膜的厚度为200nm～5000nm。