[发明专利]晶片的加工方法有效
申请号: | 201510640532.6 | 申请日: | 2015-09-30 |
公开(公告)号: | CN105514036B | 公开(公告)日: | 2019-09-06 |
发明(设计)人: | 山下阳平;古田健次;李怡慧 | 申请(专利权)人: | 株式会社迪思科 |
主分类号: | H01L21/78 | 分类号: | H01L21/78;B23K26/53 |
代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人: | 李辉;金玲 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 晶片 加工 方法 | ||
本发明提供一种晶片的加工方法,包括:晶片支撑工序,在晶片的背面贴附切割带的正面并通过环状框架支撑切割带的外周部;晶片保持工序,在保持台的保持面上保持晶片的正面侧,并且通过框架夹钳固定环状框架;环状改质层形成工序,从切割带的背面侧透过切割带,将激光光线的聚光点定位于器件区域与外周剩余区域之间的边界部的内部并沿着器件区域与外周剩余区域之间的边界部照射激光光线,在晶片的内部沿着器件区域与外周剩余区域之间的边界部形成环状的改质层的环状改质层形成工序;以及改质层形成工序,从切割带的背面侧透过切割带将激光光线的聚光点定位于晶片的内部并沿着分割预定线照射激光光线,在晶片的内部沿着分割预定线形成改质层。
技术领域
本发明涉及在正面由呈格子状排列的分割预定线划分出多个区域,且在该被划分出的多个区域上形成有器件的晶片的加工方法。
背景技术
在半导体器件制造工艺中,在呈大致圆板形状的半导体晶片的正面被呈格子状排列的分割预定线划分出多个区域,并且在该被划分出的多个区域上形成IC、LSI等的器件。而且,通过沿着分割预定线切断半导体晶片,从而分割形成有器件的区域以制造出各个半导体器件。
作为分割上述半导体晶片等的晶片的方法,还可以尝试如下的激光加工方法,使用对晶片具有透过性的波长的脉冲激光光线,并将聚光点定位于待分割区域的内部并照射脉冲激光光线。使用这种激光加工方法的分割方法是如下的技术,从晶片的一个正面侧在内部定位聚光点,并且沿着分割预定线照射对晶片具有透过性的波长的脉冲激光光线,在晶片的内部沿着分割预定线连续形成作为断裂起点的改质层,并沿着由于形成该改质层而强度降低的分割预定线施加外力,从而分割晶片,可期待得到使分割预定线的宽度形成得极小的效果(例如,参照专利文献1)。
在上述的在晶片内部沿着分割预定线形成作为断裂起点的改质层,并沿着形成有该改质层的分割预定线分割晶片的方法中,为了在分割预定线的宽度较小的晶片上形成改质层,因而优选从未形成有器件的背面侧照射激光光线,此外,在拾取沿着分割预定线分割晶片而得到的器件的工序中优选使得形成有器件的正面侧露出,因而从晶片的背面侧起沿着分割预定线照射对晶片具有透过性的波长的激光光线,从而在晶片的内部沿着分割预定线形成改质层,并且在形成有该改质层的晶片的背面贴附切割带且通过环状框架支撑切割带的外周部后,对晶片赋予外力,从而将晶片分割为各个器件(例如,参照专利文献2)。
如上所述,在晶片的内部沿着分割预定线形成了改质层后,如果将形成有改质层的晶片的背面贴附于切割带上,则晶片可能会破损,因而提出了一种方法,在晶片的内部沿着分割预定线形成改质层之前,在晶片的背面上贴附切割带的正面并将切割带的外周部安装于环状框架,此后,从切割带的背面侧透过切割带而将激光光线的聚光点定位于晶片的内部,并沿着分割预定线照射激光光线(例如,参照专利文献3)。
专利文献1日本专利第3408805号公报
专利文献2日本特开2006-54246号公报
专利文献3日本特开2012-84618号公报
然而,在形成于器件上的电极是突起状的凸块电极的晶片之中,如果将背面贴附于切割带上的晶片的正面侧保持于激光加工装置的保持台,并且通过安装于保持台的框架固定单元保持安装有切割带的环状框架,则切割带会压低晶片的外周部,在沿着分割预定线照射激光光线在内部形成改质层时,存在由于向下按压的应力而使得与晶片的外周部相邻的器件发生破损的问题。
发明内容
本发明就是鉴于上述情况而完成的,其主要的技术课题在于提供一种激光加工方法,针对形成于器件上的电极是突起状的凸块电极的晶片,从切割带的背面侧透过切割带而将激光光线的聚光点定位于晶片的内部,并沿着分割预定线照射激光光线,从而能够在不使器件破损的情况下在晶片的内部沿着分割预定线形成期望的改质层。
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