[发明专利]制造显示装置的装置和方法

权利要求书

1.一种用于制造显示装置的装置，其特征在于，所述用于制造显示装置的装置包括：

室；

无机层形成喷嘴单元，设置在所述室中并被配置为形成至少一个无机层；

有机层形成喷嘴单元，设置在所述室中并被配置为形成至少一个有机层，其中，所述有机层形成喷嘴单元与所述无机层形成喷嘴单元直列地布置；以及

分隔喷嘴单元，设置在所述无机层形成喷嘴单元与所述有机层形成喷嘴单元之间并被配置为喷射惰性气体，

其中，所述无机层形成喷嘴单元、所述有机层形成喷嘴单元和所述分隔喷嘴单元设置在相同的室中，

其中，所述无机层形成喷嘴单元包括被配置为供给吹扫气体的吹扫气体供给喷嘴。

2.如权利要求1所述的装置，其特征在于，所述装置还包括被配置为在所述无机层形成喷嘴单元与所述分隔喷嘴单元之间以及所述有机层形成喷嘴单元与所述分隔喷嘴单元之间抽吸所述室中的气体的吸气单元。

3.如权利要求1所述的装置，其特征在于，所述装置还包括设置在所述室中并被配置为直线地移动的传送器，其中，所述传送器还被配置为接收其上形成有显示单元的基底。

4.如权利要求1所述的装置，其特征在于，所述无机层形成喷嘴单元还包括：

源气体供给喷嘴，包括第一空间，源气体被供给到所述第一空间以被喷射；以及

等离子体供给喷嘴，包括第二空间，反应气体被供给到所述第二空间以产生等离子体，所述等离子体供给喷嘴被配置为向外部喷射所述等离子体，

其中，所述吹扫气体供给喷嘴与所述源气体供给喷嘴和所述等离子体供给喷嘴中的至少一个分开。

5.如权利要求4所述的装置，其特征在于，所述等离子体供给喷嘴包括：

反应气体供给单元，设置在所述第二空间中并包括第三空间，通过所述第三空间供给所述反应气体；以及

等离子体供给喷嘴主体，被配置为围绕所述反应气体供给单元以与所述反应气体供给单元形成所述第二空间，并被配置为与所述反应气体供给单元产生电势差以从所述反应气体产生所述等离子体。

6.如权利要求1所述的装置，其特征在于，所述有机层形成喷嘴单元包括喷头，所述喷头被配置为供给沉积气体以形成活化的离子物种并被配置为喷射所述活化的离子物种。

7.如权利要求6所述的装置，其特征在于，所述有机层形成喷嘴单元包括：

外部，形成外观；

绝缘单元，形成在所述外部中并在其中包括所述喷头；以及

第二电源单元，被配置为在所述外部与所述喷头之间产生电势差。

8.如权利要求1所述的装置，其特征在于，所述无机层形成喷嘴单元、所述分隔喷嘴单元和所述有机层形成喷嘴单元顺序地布置。

9.如权利要求1所述的装置，其特征在于，所述有机层形成喷嘴单元、所述分隔喷嘴单元和所述无机层形成喷嘴单元顺序地布置。

10.如权利要求1所述的装置，其特征在于，所述无机层形成喷嘴单元是多个喷嘴单元，所述有机层形成喷嘴单元是多个喷嘴单元，或其组合。

11.如权利要求10所述的装置，其特征在于，所述分隔喷嘴单元还形成在两个相邻的无机层形成喷嘴单元之间或两个相邻的有机层形成喷嘴单元之间。

12.如权利要求1所述的装置，其特征在于，所述装置还包括卸载器，所述卸载器被配置为从所述室卸载其上形成有显示单元和薄膜包封层的基底。

13.如权利要求12所述的装置，其特征在于，所述装置还包括与被配置为传送所述基底的所述卸载器连接的保护层形成单元，其中，所述保护层形成单元被配置为在所述薄膜包封层上形成保护层。