[发明专利]量子点彩膜的制备方法在审
申请号: | 201510646777.X | 申请日: | 2015-10-08 |
公开(公告)号: | CN105242442A | 公开(公告)日: | 2016-01-13 |
发明(设计)人: | 梁宇恒 | 申请(专利权)人: | 深圳市华星光电技术有限公司 |
主分类号: | G02F1/1335 | 分类号: | G02F1/1335 |
代理公司: | 深圳市德力知识产权代理事务所 44265 | 代理人: | 林才桂 |
地址: | 518132 广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 量子 点彩膜 制备 方法 | ||
1.一种量子点彩膜的制备方法,其特征在于,包括如下步骤:
步骤1、提供基板(1),所述基板(1)包括数个蓝色子像素区域、绿色子像素区域、及红色子像素区域;在所述基板(1)上涂布一层透明有机光阻材料,形成透明有机光阻层(2);
步骤2、通过光刻工艺对所述透明有机光阻层(2)进行图案化处理,去掉透明有机光阻层(2)上对应所述蓝色子像素区域以外的部分,得到图案化的透明有机光阻层(2’),所述图案化的透明有机光阻层(2’)作为量子点彩膜的蓝色子像素部分;
步骤3、对所述图案化的透明有机光阻层(2’)的上表面做疏水处理;
步骤4、在所述基板(1)上涂布一层绿色量子点固化胶,所述绿色量子点固化胶不附着在图案化的透明有机光阻层(2’)上、而填充于图案化的透明有机光阻层(2’)与所述基板(1)形成的凹槽内,经固化后,得到绿色量子点固化胶层(3),所述绿色量子点固化胶层(3)对应于所述绿色子像素区域、及红色子像素区域;
步骤5、在所述基板(1)上涂布一层红色量子点光刻胶,所述红色量子点光刻胶不附着在图案化的透明有机光阻层(2’)上、而填充于图案化的透明有机光阻层(2’)与所述绿色量子点固化胶层(3)形成的凹槽内,得到红色量子点光刻胶层(4),所述红色量子点光刻胶层(4)对应于所述绿色子像素区域、及红色子像素区域;
步骤6、通过光刻工艺对所述红色量子点光刻胶层(4)进行图案化处理,去掉红色量子点光刻胶层(4)上对应绿色子像素区域的部分,露出其下方的绿色量子点固化胶层(3),得到图案化的红色量子点光刻胶层(4’);其中,所述绿色量子点固化胶层(3)上对应于所述绿色子像素区域的部分作为量子点彩膜的绿色子像素部分,所述绿色量子点固化胶层(3)上对应于所述红色子像素区域的部分及其上方图案化的红色量子点光刻胶层(4’)作为量子点彩膜的红色子像素部分。
2.如权利要求1所述的量子点彩膜的制备方法,其特征在于,所述步骤1还包括,在涂布一层透明有机光阻材料之前,在所述基板(1)上通过光刻工艺形成黑色矩阵(5)。
3.如权利要求2所述的量子点彩膜的制备方法,其特征在于,所述黑色矩阵(5)将所述蓝色子像素区域、绿色子像素区域、及红色子像素区域间隔开。
4.如权利要求1所述的量子点彩膜的制备方法,其特征在于,还包括步骤7:经步骤6后,在露出的绿色量子点固化胶层(3)的表面上形成一层绿色色阻层(31),在所述图案化的红色量子点光刻胶层(4’)的表面上形成一层红色色阻层(41)。
5.如权利要求1所述的量子点彩膜的制备方法,其特征在于,所述步骤1中形成的透明有机光阻层(2)的厚度为0-20μm。
6.如权利要求1所述的量子点彩膜的制备方法,其特征在于,所述步骤1中提供的基板(1)用于制作液晶显示面板中的阵列基板。
7.如权利要求1所述的量子点彩膜的制备方法,其特征在于,所述步骤1中提供的基板(1)用于制作液晶显示面板中的彩膜基板。
8.如权利要求1所述的量子点彩膜的制备方法,其特征在于,所述量子点彩膜用于背光为蓝光的显示装置中。
9.如权利要求1所述的量子点彩膜的制备方法,其特征在于,所述绿色量子点固化胶包含固化胶体、及混合于固化胶体中的绿色量子点;所述固化胶体为热固化胶、或紫外固化胶;所述步骤4中,采用热固化、或紫外固化的方式进行固化。
10.如权利要求1所述的量子点彩膜的制备方法,其特征在于,上表面做疏水处理后的图案化的透明有机光阻层(2’)的高度大于所述绿色量子点固化胶层(3)与图案化的红色量子点光刻胶层(4’)的高度;所述透明有机光阻层(2’)还用作液晶显示面板内的光阻间隔物。
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