[发明专利]一种应用于场效应晶体管半导体材料的二维复合氢氧化物微米晶体及其制备工艺有效
申请号: | 201510649296.4 | 申请日: | 2015-10-09 |
公开(公告)号: | CN105428246B | 公开(公告)日: | 2018-05-29 |
发明(设计)人: | 闫东鹏;赵以兵 | 申请(专利权)人: | 北京师范大学 |
主分类号: | H01L21/34 | 分类号: | H01L21/34;H01L29/24 |
代理公司: | 北京太兆天元知识产权代理有限责任公司 11108 | 代理人: | 张洪年 |
地址: | 100875 北*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 二维 场效应晶体管 复合氢氧化物 单分散 半导体材料 制备工艺 微晶 半导体场效应晶体管 合成 应用 电极制备工艺 导电性 层间阴离子 超级电容器 电化学催化 电子束刻蚀 电学领域 二维材料 工艺制备 沟道材料 金属离子 微米晶体 无机纳米 应用潜力 应用提供 回流法 单晶 蒸镀 制备 半导体 拓展 改进 | ||
本发明公开了一种应用于场效应晶体管半导体材料的二维复合氢氧化物微晶及其制备工艺,并探讨了其导电性与材料的层板组成、金属离子类型、层间阴离子类型的关系。大尺寸、单分散的LDHs微米片的合成以及电极制备工艺可简要概括为以下步骤:(1)制备得到大尺寸、单分散的二维无机纳米复合氢氧化物微晶;(2)采用电子束刻蚀与蒸镀工艺制备成半导体场效应晶体管器件。本发明的优点在于,采用改进的回流法,合成出了不同类型的大尺寸、单分散的二维LDHs单晶微米片,并首次将其应用于场效应晶体管的沟道材料,极大拓展了此类材料在半导体电学领域的应用潜力,同时对于此类二维材料在电化学催化、超级电容器等领域的应用提供了一定的指导依据。
技术领域
本发明属于化学合成和电子器件领域,特别是提供了一种大尺寸、单分散的应用于场效应晶体管半导体材料的二维复合氢氧化物微米晶体及其制备工艺。
背景技术
近年来,二维层状材料由于其新颖的物理化学性质而不断受到人们关注,基于此类材料特殊的结构特点,其在电,光,催化等领域的应用也不断被报道。在典型的电子学领域,二维材料的几何形态可操作性更强,在半导体行业更易直接兼容设备设计和操作处理,这可以克服一维结构本质上不同直径,不同长度,甚至不同电子性质的局限性。
层状过渡金属氧化物和氢氧化物是无机二维层状材料的一支庞大家族,由于其优异的理化性质以及可操作性强等特点而越来越引起工程技术领域和材料领域的广泛兴趣。然而与其他已体现出良好电子学性能和应用前景的二维材料(如石墨烯,六方氮化硼,过渡金属硫化物等)相比,层状过渡金属氧化物和氢氧化物的电子学和半导体性能的相关报道非常稀少,这是与此类材料在其他领域(如光学、化学、生物医药等)的蓬勃发展是不相称的。层状复合双金属氢氧化物(简称LDHs)即是这类材料的典型代表,该类材料的化学式可以表述为:M
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造