[发明专利]一种风刀及具有风刀的湿法处理装置在审
申请号: | 201510657375.X | 申请日: | 2015-10-13 |
公开(公告)号: | CN105226133A | 公开(公告)日: | 2016-01-06 |
发明(设计)人: | 张淋;程强强;黄洪杰 | 申请(专利权)人: | 苏州宝馨科技实业股份有限公司 |
主分类号: | H01L31/18 | 分类号: | H01L31/18;F26B21/00 |
代理公司: | 广州三环专利代理有限公司 44202 | 代理人: | 郝传鑫 |
地址: | 215151 江苏省苏州*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 具有 湿法 处理 装置 | ||
技术领域
本发明涉及湿制程设备领域,尤其涉及一种风刀及具有风刀的湿法处理装置。
背景技术
太阳能电池生产过程中,在对太阳能电池片化学湿法处理清洗后,需要对硅片进行干燥以便后续作业。
传统方法,需要把硅片装入硅片盒中,放入甩干机进行甩干。生产效率较低,不适合水平湿法处理。
现有的水平湿法处理设备中采用的风刀结构,具有如下问题:一是采用压缩空气吹干,需要一直消耗洁净的压缩空气,成本较高;二是采用一般高压风机供气的风刀,但是由于现有的风刀结构不合理,经过风刀吹气处理后的硅片上仍会有少量的水残留,为了去除残留的水分,需要增加空气压力和流量,容易导致硅片破裂,碎片率上升。
现有技术中没有一种结构合理的风机,在压力与风量需求适中的前提下,既能够保证硅片不会破裂,又能够完全去除硅片上的水分。
发明内容
为克服现有技术的不足,本发明的目的是:提供一种风刀及具有风刀的湿法处理装置,风刀的进风压力与风量需求适中,气流结构设计合理,出气均匀且向不同的角度喷出,防止硅片受力不均而发生破裂或残留水渍。
为了解决背景技术中的技术问题,本发明提供了一种风刀,包括进风部和出风部,所述进风部与出风部连通,所述进风部设置有进风口,所述出风部设置有多个排风通道,每个排风通道向水平面倾斜设置,所述排风通道与水平面的夹角为排风通道的倾斜角度,且多个排风通道的倾斜角度不完全相同。
可选地,所述排风通道的孔径范围为0.5mm-1.5mm。
优选地,所述出风部和进风部均为长条体,所述出风部上远离进风部的端部为排风部,所述排风通道设置在所述排风部上。
优选地,所述排风部上设置有多个排风通道组,每个排风通道组包括多个排风通道,每个排风通道组的多个排风通道排成一排,每个排风通道与排风部端面形成夹角,所述夹角范围为40°-80°。
进一步地,每一个排风通道组的排风通道沿着排风部的长度方向设置,任意两个排风通道组的排风通道交错分布。
具体地,每个排风通道在出风方向上均向着出风部长度方向的同一侧面倾斜,同一个排风通道组的排风通道的倾斜角度均相同,越靠近所述同一侧面的排风通道组中排风通道的倾斜角度越小。
优选地,相邻两个排风通道组的排风通道的倾斜角度差值均相等。
进一步地,所述进风部内部具有进风腔,所述出风部内部具有排风腔,优选地,所述进风腔的宽度大于排风腔的宽度,所述进风部和出风部均由玻璃纤维增强环氧树脂板制成。
优选地,所述进风部上远离出风部的表面为中部高两边低的倾斜结构,所述倾斜结构由倾斜结构中部向进风部上沿着长度方向的两个侧面倾斜而形成。
本发明还提供了一种具有风刀的湿法处理装置,包括两个如上所述的风刀,两个风刀的排风部相对设置。
采用上述技术方案,本发明的风刀的进风压力与风量需求适中,气流结构设计合理,出气均匀且向不同的角度喷出,防止硅片受力不均而发生破裂或残留水渍。
附图说明
为了更清楚地说明本发明的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其它附图。
图1是本发明实施例提供的风刀的正视图;
图2是本发明实施例提供的风刀的左视图;
图3是本发明实施例提供的风刀的安装示意图;
图4是本发明实施例提供的风刀的出风部的侧视图;
图5是本发明实施例提供的风刀的排风通道的分布示意图。
其中,图中附图标记对应为:2-出风部,21-排风腔,22-排风通道,23-排风部,3-进风部,31-进风腔,32-进风口,41-固定块,42-连接件,43-螺栓,44-支撑块,5-硅片。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图,对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动的前提下所获得的所有其他实施例,都属于本发明保护的范围。
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H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的