[发明专利]量子点偏光片的制作方法有效

专利信息
申请号: 201510658524.4 申请日: 2015-10-12
公开(公告)号: CN105204106B 公开(公告)日: 2018-11-20
发明(设计)人: 程小平;李泳锐 申请(专利权)人: 深圳市华星光电技术有限公司
主分类号: G02B5/30 分类号: G02B5/30;G02F1/1335
代理公司: 深圳市德力知识产权代理事务所 44265 代理人: 林才桂
地址: 518132 广东*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 量子 偏光 制作方法
【权利要求书】:

1.一种量子点偏光片的制作方法,其特征在于,包括如下步骤:

步骤1、提供第一基材(11),在所述第一基材(11)上制备量子点层(12)、第一保护层(13)、及第一黏着层(14),得到量子点膜片(1);

步骤2、提供第二基材(21),在所述第二基材(21)上制备偏光层(22)、第二保护层(23)、第二黏着层(24)、及剥离保护膜(25),得到偏光膜片(2);

步骤3、通过第一黏着层(14)将所述量子点膜片(1)与所述偏光膜片(2)进行贴合,得到量子点偏光片;

所述步骤1中,通过蒸镀法在所述第一基材(11)上形成量子点薄膜,得到量子点层(12)。

2.如权利要求1所述的量子点偏光片的制作方法,其特征在于,所述步骤1中,所述量子点层(12)内包含的量子点包括Ⅱ-Ⅵ族元素组成的半导体、Ⅲ-Ⅴ族元素组成的半导体、及碳量子点中的一种或多种,所述量子点为稳定直径在0~20nm的纳米粒子。

3.如权利要求1所述的量子点偏光片的制作方法,其特征在于,所述步骤2中形成的偏光膜片(2)为碘系偏光片、或染料系偏光片。

4.如权利要求1所述的量子点偏光片的制作方法,其特征在于,所述蒸镀法为分子束外延法、或有机金属化学气相沉积法。

5.如权利要求1所述的量子点偏光片的制作方法,其特征在于,所述步骤3得到的量子点偏光片用作液晶显示面板的上偏光片、或者下偏光片。

6.如权利要求1所述的量子点偏光片的制作方法,其特征在于,所述步骤1中得到的量子点膜片(1)内由上至下依次为第一基材(11)、第一保护层(13)、量子点层(12)、及第一黏着层(14);所述步骤2中得到的偏光膜片(2)内由上至下依次为偏光层(22)、第二保护层(23)、第二基材(21)、第二黏着层(24)、及剥离保护膜(25);所述步骤3中,所述量子点偏光片由第一黏着层(14)粘附在所述偏光膜片(2)的偏光层(22)上得到;所述量子点偏光片在使用时,将剥离保护膜(25)撕掉,通过第二黏着层(24)将所述量子点偏光片贴附在待贴附的基板上。

7.一种量子点偏光片的制作方法,其特征在于,包括如下步骤:

步骤1、提供第一基材(11),在所述第一基材(11)上制备量子点层(12)、第一保护层(13)、及第一黏着层(14),得到量子点膜片(1);

步骤2、提供第二基材(21),在所述第二基材(21)上制备偏光层(22)、第二保护层(23)、第二黏着层(24)、及剥离保护膜(25),得到偏光膜片(2);

步骤3、通过第一黏着层(14)将所述量子点膜片(1)与所述偏光膜片(2)进行贴合,得到量子点偏光片;

所述步骤1中,在所述第一基材(11)上制备量子点层(12)的具体方法为:提供量子点材料及溶解介质,将所述量子点材料溶解分散到所述溶解介质中,混合均匀,制得量子点胶,将所述量子点胶在所述第一基材(11)上制作成膜,干燥固化后,得到量子点层(12);

所述量子点材料由量子点经过表面接枝法、或表面包覆法进行表面修饰后得到,所述量子点材料为油溶性、或水溶性;所述量子点的形态为球状、棒状、或纤维状。

8.如权利要求7所述的量子点偏光片的制作方法,其特征在于,所述步骤1中,所述量子点层(12)内包含的量子点包括Ⅱ-Ⅵ族元素组成的半导体、Ⅲ-Ⅴ族元素组成的半导体、及碳量子点中的一种或多种,所述量子点为稳定直径在0~20nm的纳米粒子。

9.如权利要求7所述的量子点偏光片的制作方法,其特征在于,所述步骤2中形成的偏光膜片(2)为碘系偏光片、或染料系偏光片。

10.如权利要求7所述的量子点偏光片的制作方法,其特征在于,所述步骤1中通过喷涂、旋涂、打印、或狭缝涂布的方式将所述量子点胶在所述第一基材(11)上制作成膜。

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