[发明专利]用于执行微波辅助反应的设备及其方法

权利要求书

1.一种用于执行微波辅助反应的设备，其特征在于，所述设备包括：

微波辐射源；

腔；

波导件，与所述微波辐射源和所述腔微波连通；

至少一个反应釜；

至少一个反应釜传感器，用于确定所述反应釜的一个或多个特性；所述特性选自于由所述反应釜传感器确定的安置在所述腔内的反应釜的数量、所述腔内的反应釜的类型、反应釜内的温度和反应釜内的压力组成的组；

界面；以及，

计算机控制器，其与所述界面、所述微波辐射源和所述反应釜传感器通信，所述计算机控制器能够响应于所述一个或多个特性来调节所述微波辐射源的输出；

其中，当所述设备执行微波辅助反应时，所述反应釜传感器检测选自于由反应釜的数量和反应釜的类型组成的组的一个或多个特性，以识别所述反应釜的物理特性；所述计算机控制器响应于通过所述界面选择的期望的反应和所识别的所述反应釜的数量和/或类型控制微波功率，并且所述计算机控制器响应于监测到的反应釜内的温度并基于所存储的、反应釜内的理想的温度与执行一个或多个反应所需的微波功率之间的关系调节微波功率；所述微波辐射源根据所述微波功率向所述反应釜及其内的容纳物辐射微波。

2.根据权利要求1所述的用于执行微波辅助反应的设备，其特征在于，所述反应釜传感器包括：至少一个温度传感器，与所述计算机控制器通信，用于检测安置在所述腔内的反应釜内的温度。

3.根据权利要求1所述的用于执行微波辅助反应的设备，其特征在于，所述反应釜传感器还包括：至少一个压力传感器，与所述计算机控制器通信，用于检测安置在所述腔内的反应釜内的压力。

4.根据权利要求1所述的用于执行微波辅助反应的设备，其特征在于，还包括转台，安置在所述腔内，所述转台限定多个反应釜安置位；

所述转台在所述反应釜安置位中的至少一个反应釜安置位限定多个孔；所述反应釜传感器包括用于检测一个或多个孔是否被反应釜堵塞的至少一个至少一个光学传感器。

5.根据权利要求1所述的用于执行微波辅助反应的设备，所述反应釜传感器还包括：至少一个重量传感器，用于检测反应釜内的样品重量。

6.根据权利要求1所述的用于执行微波辅助反应的设备，其特征在于，所述反应釜对微波辐射实质上是透明的；

其中，所述反应釜包括条形码；以及，

其中，所述反应釜传感器包括至少一个条形码读取器。

7.根据权利要求1所述的用于执行微波辅助反应的设备，其特征在于，所述反应釜对微波辐射实质上是透明的；

其中，所述反应釜包括射频识别标签；以及，

其中，所述反应釜传感器包括至少一个射频识别读取器。

8.根据权利要求1～7任一项所述的用于执行微波辅助反应的设备，其中：

所述计算机控制器包括存储的、反应釜内的理想的温度与执行一个或多个反应所需的微波功率之间的关系；以及，

响应于从所述温度传感器接收的温度数据，所述计算机控制器调节存储的、反应釜内的理想的温度与执行一个或多个反应所需的微波功率之间的关系，以减小理想的温度与测量的温度之间的差异。

9.根据权利要求1～7任一项所述的用于执行微波辅助反应的设备，其中，所述计算机控制器包括从由以下关系组成的组中选择的一个或多个存储的关系：反应釜的数量与执行一个或多个反应所需的微波功率之间的关系，以及反应釜的类型与执行一个或多个反应所需的微波功率之间的关系。