[发明专利]一种低碱性受阻胺光稳定剂及其制备方法

说明书

本发明公开了一种低碱性受阻胺光稳定剂，其结构如式I所示，具有优异的稳定效果，且相容性好、耐抽提、应用范围广，本发明还公开了所述光稳定剂的制备方法，包括：N‑(2，2，6，6‑四甲基‑4‑哌啶基)胺和三聚氯氰反应得到中间体；中间体和N，N’‑双[N‑(2，2，6，6‑四甲基‑4‑哌啶基)]‑1，6‑己二胺按反应得到聚合物，并进一步甲基化得到产物，该合成方法具有操作简单，产品收率高，分子量分布窄等优点

技术领域：

本发明涉及高分子材料领域，特别是涉及一种低碱性的受阻胺光稳定剂及其制备方法。

背景技术：

随着科学技术的不断发展，高分子材料已经成为人们生产与生活中不可或缺的一部分。然而，高分子材料在光、氧、热作用下，往往会发生老化现象。例如，橡胶产品的发粘、硬化，塑料和纤维制品的变色、脆化等。这种现象无疑给工业生产以及人们的生活带来了巨大的不便与损失。如何有效的抑制高分子材料的老化，延长其使用时间是人们一直关注的一个问题。工业上往往通过在高分子材料中添加适量的光稳定剂来延长材料的使用时间，目前，最常用的光稳定剂主要有紫外线吸收剂和受阻胺光稳定剂。其中，受阻胺类光稳定剂因为具有2，2，6，6-四甲基哌啶结构，光稳定效果优异，因而受到广泛关注。据统计，如今国外应用的光稳定剂产品中，受阻胺类光稳定剂所占份额为60％左右；在国内，受阻胺光稳定剂所占份额更高，约为80％。由此可见，受阻胺光稳定剂在光稳定剂领域占有举足轻重的地位。

目前，常见的受阻胺光稳定剂产品主要有Tinuvin 744、Tinuvin 770、Tinuvin144和Chimassorb 944。其中，Tinuvin 744、Tinuvin 770和Tinuvin 144是低分子量的产品，上述产品虽然和聚丙烯、聚乙烯、ABS树脂等高分子材料具有良好的相容性，且光稳定效果数倍于其他类型光稳定剂，但是低分子量的缺陷造成其在一些纤维薄膜等比表面积较大制品中易挥发、易迁移，从而限制了它们的应用范围。聚合型高分子量受阻胺光稳定剂Chimassorb 944可以很好地解决这些问题。尽管如此，Chimassorb 944仍然存在碱性较高这一弊端，其在使用和加工过程中与酸性物质接触，容易成盐而降低它的光稳定性能，从而限制了其与酸性树脂、含卤阻燃剂和酚类抗氧剂的协同稳定作用。

专利CN102827148A提供了一种受阻胺类化合物，利用保护基团对GW-944哌啶环上的氨基进行保护，然后利用亲核反应引入端烯基基团。作为高分子聚合物的光稳定剂时，由于含有不饱和键的端烯基基团可以经辐射技术将其接枝到高分子链上，形成碳碳键，因此受阻胺类化合物不易溶解析出，光稳定性增强。

专利CN104725361A公开了光稳定剂3346及其制备方法，光稳定剂3346是聚合型受阻胺光稳定剂，对耐候性要求较高的有色或无色聚烯烃制品的防护特别有效，而且特适用于农膜、纤维和模塑制品等。除了具有极好的光稳定性、与树脂极好的相容性、色浅、无毒和高温挥发性低等特点外，还具有很好的热氧防护性能。

同样的，上述专利中公开的光稳定剂仍然存在碱性较高的问题，限制了其与酸性树脂、含卤阻燃剂和酚类抗氧剂的协同稳定作用。

为克服现有技术的缺陷，本发明提供了一种结构单元中含有三个1，2，2，6，6-五甲基哌啶结构低碱性的受阻胺光稳定剂及其制备方法。

发明内容：

本发明一个目的是提供一种低碱性受阻胺光稳定剂，解决了现有技术中受阻胺光稳定剂碱性高的缺陷，使受阻胺光稳定剂适用范围广并具有良好的光稳定效果。

本发明还一个目的是提供一种低碱性受阻胺光稳定剂的制备方法，操作简单，制备得到的产品收率高，分子量分布窄。

因而，本发明一方面提供一种低碱性受阻胺光稳定剂，其结构如式I所示：

式I；

式I中n为2-10；