[发明专利]曝光装置及曝光方法

权利要求书

1.一种曝光装置，所述曝光装置将带电粒子束照射在与基于网格预先形成在试样上的具有不同线宽和不同间距的多个线图中的线图对应的位置处，所述曝光装置具备：

射束产生部，在所述线图的宽度方向上产生照射位置不同的多个带电粒子束，其中所述照射位置被配置为与所述网格相对应；

扫描控制部，使所述多个带电粒子束的照射位置沿着所述线图的长度方向扫描；

选择部，在所述线图上的长度方向的被指定的照射位置选择所述多个带电粒子束中的至少一个带电粒子束，使其应照射至所述试样；以及

照射控制部，控制将所选择的所述至少一个带电粒子束照射至所述试样。

2.根据权利要求1所述的曝光装置，其中所述选择部根据所述被指定的照射位置中的所述线图的宽度而选择所述多个带电粒子束中的在宽度方向上连续的所述至少一个带电粒子束。

3.根据权利要求1所述的曝光装置，其还具备载置所述试样并使其移动的平台部，

所述扫描控制部是在维持所述带电粒子束的通过路径的状态下利用所述平台部使所述试样沿所述线图的长度方向移动。

4.根据权利要求3所述的曝光装置，其还具备使所述多个带电粒子束偏向的偏向部，且

所述扫描控制部根据所述平台部所产生的所述试样的移动误差而调整所述带电粒子束的通过路径。

5.根据权利要求1所述的曝光装置，其中所述选择部根据所述多个带电粒子束的照射位置经过所述线图的长度方向上的预先规定的基准位置后的经过时间而检测所述被指定的照射位置。

6.根据权利要求5所述的曝光装置，其中所述选择部根据所述多个带电粒子束的照射位置在所述线图的长度方向上的多个基准位置中最后经过的基准位置、及经过该基准位置后的经过时间而检测所述被指定的照射位置。

7.根据权利要求1所述的曝光装置，其中所述照射控制部在将所述至少一个带电粒子束照射至沿着所述线图的长度方向被指定的长度范围内的情况下，根据该范围内的照射位置而变更所述至少一个带电粒子束的照射量。

8.根据权利要求7所述的曝光装置，其中所述照射控制部根据该范围内的照射位置而变更是否将所述至少一个带电粒子束照射至所述试样。

9.根据权利要求8所述的曝光装置，其中所述照射控制部使所述多个带电粒子束中的路径最接近的两个带电粒子束照射至所述试样的时机错开。

10.根据权利要求1所述的曝光装置，其还具备切换是否使所述多个带电粒子束的每一个照射至所述试样的遮没部，且

所述遮没部具有：

多个开口，使所述多个带电粒子束的每一个个别地通过；

共用电极，在与所述线图的长度方向对应的方向上设置于第一开口与第二开口之间的壁面且被所述第一开口及所述第二开口所共用；

第一遮没电极，设置于所述第一开口中的与所述共用电极相反侧的壁面；以及

第二遮没电极，设置于所述第二开口中的与所述共用电极相反侧的壁面。

11.根据权利要求10所述的曝光装置，其中所述照射控制部根据所述选择部的选择而变更所述第一遮没电极及所述第二遮没电极的电压。

12.根据权利要求1至11中任一项所述的曝光装置，其具备多个所述射束产生部、所述选择部、及所述照射控制部，且

所述扫描控制部控制载置所述试样并使其移动的平台部，从而使所述试样相对于多个所述射束产生部移动，且

利用多个所述射束产生部并列地对所述试样照射带电粒子束。

13.一种曝光方法，用于将带电粒子束照射在与试样上的多个线图中的线图对应的位置处，所述曝光方法具备：

基于网格在所述试样上形成具有不同线宽和不同间距的所述多个线图；

射束产生阶段，在所述线图的宽度方向产生照射位置不同的多个带电粒子束，其中所述照射位置被配置为与所述网格相对应；

扫描控制阶段，使所述多个带电粒子束的照射位置沿着所述线图的长度方向扫描；

选择阶段，在所述线图上的长度方向的被指定的照射位置，选择所述多个带电粒子束中的至少一个带电粒子束，使其应照射至所述试样；以及

照射控制阶段，控制将所选择的所述至少一个带电粒子束照射至所述试样。