[发明专利]掩膜板、构图工艺系统及方法

权利要求书

1.一种掩膜板，其特征在于，包括控制单元和液晶盒；

所述控制单元用于根据控制指令控制所述液晶盒呈现预设的掩膜图案；

所述控制指令为根据所述预设的掩膜图案确定的控制指令。

2.根据权利要求1所述的掩膜板，其特征在于，所述掩膜板设置有行列排布的多个掩膜子区，每个掩膜子区均设置有对应的控制开关；

所述控制开关用于根据所述控制指令控制对应的掩膜子区的液晶的透光状态，使得所述液晶盒呈现所述预设的掩膜图案。

3.根据权利要求2所述的掩膜板，其特征在于，所述透光状态包括全透光、不透光和灰度透光。

4.根据权利要求3所述的掩膜板，其特征在于，所述控制开关包括薄膜晶体管，所述薄膜晶体管根据所述控制指令控制对应的掩膜子区的液晶的透光状态为全透光、不透光或灰度透光。

5.根据权利要求2所述的掩膜板，其特征在于，所述掩膜子区的液晶为聚合物分散液晶。

6.根据权利要求5所述的掩膜板，其特征在于，所述控制开关包括薄膜晶体管，所述薄膜晶体管根据所述控制指令控制对应的掩膜子区的聚合物分散液晶的透光状态为全透光或不透光。

7.根据权利要求4或6所述的掩膜板，其特征在于，所述液晶盒还包括像素电极、数据线和栅线，所述薄膜晶体管包括源极、漏极和栅极，所述源极和漏极中的一个与所述数据线相连，另一个与所述像素电极相连，所述栅极与所述栅线相连。

8.根据权利要求7所述的掩膜板，其特征在于，所述控制单元周期性扫描驱动所述薄膜晶体管，使得所述薄膜晶体管控制对应的掩膜子区的液晶的透光状态在预设时间段内保持不变。

9.一种用于基板的构图工艺系统，其特征在于，包括光源装置以及如权利要求1～8任一项所述的掩膜板；其中，所述预设的掩膜图案为构图工艺图案。

10.根据权利要求9所述的系统，其特征在于，所述构图工艺图案为封框胶图案。

11.根据权利要求10所述的系统，其特征在于，所述掩膜板包含行列设置的多个掩膜子区，至少两个掩膜子区组成一个掩膜区块；

所述控制单元用于根据控制指令控制所述掩膜区块以使所述掩膜板呈现所述封框胶图案；

所述控制指令为根据所述预设的封框胶图案确定的控制指令。

12.一种利用权利要求1～8任一项所述的掩膜板进行构图工艺的方法，其特征在于，包括：

根据预设的构图工艺图案确定所述控制指令；

将所述控制指令写入所述控制单元中，使得所述控制单元根据所述控制指令控制所述液晶盒呈现预设的构图工艺图案；

采用所述掩膜板为待曝光的第一基板进行曝光。

13.根据权利要求12所述的方法，其特征在于，所述第一基板为待进行封框胶固化的基板；所述预设的构图工艺图案为封框胶图案。

14.根据权利要求13所述的方法，其特征在于，所述掩膜板包含行列设置的多个掩膜子区，至少两个掩膜子区组成一个掩膜区块；

根据所述封框胶图案确定所述控制指令；

将所述控制指令写入所述控制单元中，使得所述控制单元根据控制指令控制所述掩膜区块以使所述掩膜板呈现所述封框胶图案；

采用所述掩膜板为待进行封框胶固化的基板进行曝光。

15.根据权利要求14所述的方法，其特征在于，所述封框胶图案包括完全曝光区域、完全不曝光区域和部分曝光区域；

所述控制单元根据控制指令控制与完全曝光区域对应的掩膜区块的液晶的透光状态为全透光，控制与完全不曝光区域对应的掩膜区块的液晶的透光状态为不透光，以及控制与部分曝光区域对应的掩膜区块的液晶的透光状态为灰度透光。