[发明专利]掩膜板、构图工艺系统及方法

说明书

技术领域

本发明涉及显示技术领域，具体涉及一种掩膜板、构图工艺系统及方法。

背景技术

掩膜板作为转移微细图形的工具，用于掩膜制造工艺的批量复制生产，在基板生产中具有至关重要的关键作用，特别是封框胶固化时，必须在掩膜板的保护下进行，否则会产生显示性不良，所以利用掩膜板进行封框胶固化是显示设备产业链中不可或缺的重要环节。而且基板生产工艺过程中，不同产品对应的图形也不同，所以就需要不同的掩膜板来对应，这样，对于不同的产品需要设计生产不同的掩膜板，且在实际应用时也需要频繁变更换不同掩膜板以实现不同产品的生产。

由于掩膜板的价格非常昂贵，若在掩膜板设计、制作、运输、保存或更换装卸等过程中有任何差错，掩膜板就无法使用，这给设计者、生产者和使用者均带来很大困扰和经济损失。

发明内容

针对现有技术中的缺陷，本发明提供一种掩膜板、构图工艺系统及方法，实现了一张掩膜板对应不同产品的作用，不但省去了不同掩膜板的设计工作，而且由于不再使用多个掩膜板，因此也节省了掩膜板成本，最重要的是，需要不同掩膜图案的产品型号变更时不需更换掩膜板即可进行紫外光照射，使得掩膜板在其正常使用寿命范围之内不需卸载，工艺操作简单，节省能耗。

为解决上述技术问题，本发明提供以下技术方案：

第一方面，本发明提供了一种掩膜板，包括控制单元和液晶盒；

所述控制单元用于根据控制指令控制所述液晶盒呈现预设的掩膜图案；

所述控制指令为根据所述预设的掩膜图案确定的控制指令。

进一步地，所述掩膜板设置有行列排布的多个掩膜子区，每个掩膜子区均设置有对应的控制开关；

所述控制开关用于根据所述控制指令控制对应的掩膜子区的液晶的透光状态，使得所述液晶盒呈现所述预设的掩膜图案。

进一步地，所述透光状态包括全透光、不透光和灰度透光。

进一步地，所述控制开关包括薄膜晶体管，所述薄膜晶体管根据所述控制指令控制对应的掩膜子区的液晶的透光状态为全透光、不透光或灰度透光。

进一步地，所述掩膜子区的液晶为聚合物分散液晶。

进一步地，所述控制开关包括薄膜晶体管，所述薄膜晶体管根据所述控制指令控制对应的掩膜子区的聚合物分散液晶的透光状态为全透光或不透光。

进一步地，所述液晶盒还包括像素电极、数据线和栅线，所述薄膜晶体管包括源极、漏极和栅极，所述源极和漏极中的一个与所述数据线相连，另一个与所述像素电极相连，所述栅极与所述栅线相连。

进一步地，所述控制单元周期性扫描驱动所述薄膜晶体管，使得所述薄膜晶体管控制对应的掩膜子区的液晶的透光状态在预设时间段内保持不变。

第二方面，本发明还提供了一种用于基板的构图工艺系统，包括光源装置以及上面所述的掩膜板；其中，所述预设的掩膜图案为构图工艺图案。

进一步地，所述构图工艺图案为封框胶图案。

进一步地，所述掩膜板包含行列设置的多个掩膜子区，至少两个掩膜子区组成一个掩膜区块；

所述控制单元用于根据控制指令控制所述掩膜区块以使所述掩膜板呈现所述封框胶图案；

所述控制指令为根据所述预设的封框胶图案确定的控制指令。

第三方面，本发明还提供了一种利用上面所述的掩膜板进行构图工艺的方法，包括：

根据预设的构图工艺图案确定所述控制指令；

将所述控制指令写入所述控制单元中，使得所述控制单元根据所述控制指令控制所述液晶盒呈现预设的构图工艺图案；

采用所述掩膜板为待曝光的第一基板进行曝光。

进一步地，所述第一基板为待进行封框胶固化的基板；所述预设的构图工艺图案为封框胶图案。

进一步地，所述掩膜板包含行列设置的多个掩膜子区，至少两个掩膜子区组成一个掩膜区块；

根据所述封框胶图案确定所述控制指令；

将所述控制指令写入所述控制单元中，使得所述控制单元根据控制指令控制所述掩膜区块以使所述掩膜板呈现所述封框胶图案；

采用所述掩膜板为待进行封框胶固化的基板进行曝光。

进一步地，所述封框胶图案包括完全曝光区域、完全不曝光区域和部分曝光区域；

所述控制单元根据控制指令控制与完全曝光区域对应的掩膜区块的液晶的透光状态为全透光，控制与完全不曝光区域对应的掩膜区块的液晶的透光状态为不透光，以及控制与部分曝光区域对应的掩膜区块的液晶的透光状态为灰度透光。