[发明专利]一种普鲁士蓝及类普鲁士蓝纳米片薄膜材料及其原位制备方法

权利要求书

1.一种普鲁士蓝及类普鲁士蓝纳米片薄膜材料的原位制备方法 ，其特征在于，包括以下步骤：

①将聚丙烯胺盐酸盐PAH和聚苯乙烯磺酸钠PSS分别溶于去离子水中，分别制得PAH水溶液和PSS水溶液；

②将干净的基片依次于PAH溶液和PSS溶液中交替浸渍，一次PAH和PSS的修饰称为一个修饰循环，完成若干次PAH和PSS的修饰循环后，得到经两种高分子聚合物修饰的基片；

③将步骤②得到的高分子聚合物修饰的基片于pH在2-4之间的酸性金属盐溶液中浸渍、洗涤、干燥后，再于酸性K₄[Fe(CN)₆]·3H₂O溶液中浸渍、洗涤和干燥，完成一次吸附-沉淀循环；

重复步骤③，完成若干次吸附-沉淀循环，制得普鲁士蓝及类普鲁士蓝纳米片薄膜材料；其中：

步骤③中金属盐溶液为铁盐、铜盐或镍盐溶液中的任意一种；所述酸性金属盐溶液和酸性K₄[Fe(CN)₆]·3H₂O溶液的浓度相同，其摩尔浓度在0.005mol/L~0.04mol/L之间。

2.根据权利要求1所述的原位制备方法，其特征在于，步骤①中，PAH水溶液和PSS水溶液的固液质量体积比相同。

3.根据权利要求1所述的原位制备方法，其特征在于，步骤②中，基片选自石英片、云母、单晶硅片或ITO中的任意一种。

4.根据权利要求1所述的原位制备方法，其特征在于，步骤②中，修饰循环的次数为3-4次。

5.根据权利要求1所述的原位制备方法，其特征在于，步骤③中，基片用水洗涤，用氮气吹干。

6.根据权利要求1所述的原位制备方法，其特征在于，步骤③中，金属盐溶液为FeCl₃·6H₂O，CuCl₂·2H₂O或NiCl₂·6H₂O中的任意一种。

7.根据权利要求1所述的原位制备方法，其特征在于，步骤③中，酸性金属盐溶液和酸性K₄[Fe(CN)₆]·3H₂O溶液的酸度用盐酸进行调节， 酸性金属盐溶液的 pH 在 2-4 之间，酸性K₄[Fe(CN)₆]·3H₂O溶液的pH=4。

8.根据权利要求1所述的原位制备方法，其特征在于，步骤中，完成3-10次吸附-沉淀循环。