[发明专利]像素阵列及其掩模结构

权利要求书

1.一种像素阵列，其特征在于，包括：

一基板，包括一第一区域、一第二区域以及一第三区域，所述第一区域的一长边 与所述第三区域的一长边之间的夹角为60度至120度，且所述第二区域的一长边与 所述第三区域的一长边之间的夹角为60度至120度；

至少两个第一颜色子像素，沿着所述第一区域的一长边方向而设置于所述第一区 域中；

至少两个第二颜色子像素，沿着所述第二区域的一长边方向而设置于所述第二区 域中；以及

至少两个第三颜色子像素，沿着所述第三区域的一长边方向而设置于所述第三区 域中，其中

所述第一区域内的其中一第一颜色子像素、所述第二区域内的其中一第二颜色子 像素以及所述第三区域内的其中一第三颜色子像素构成一像素单元。

2.如权利要求1所述的像素阵列，其特征在于，所述第一区域的所述长边与所 述第二区域的所述长边实质上彼此平行，且所述第一区域的所述长边与所述第三区域 的所述长边之间的夹角为90度至120度。

3.如权利要求1所述的像素阵列，其特征在于，所述第一区域的所述长边与X 方向之间的夹角为θ，所述第二区域的所述长边与X方向之间的夹角为θ，所述第 三区域的所述长边与X方向之间的夹角为90–θ，其中θ大于0且小于90度。

4.如权利要求3所述的像素阵列，其特征在于，所述夹角θ为45度。

5.如权利要求1所述的像素阵列，其特征在于，所述第一区域的所述长边与一 短边之间的比例为2：1，所述第二区域的所述长边与一短边之间的比例为2：1，且 所述第三区域的所述长边与一短边之间的比例为2：1。

6.如权利要求1所述的像素阵列，其特征在于，所述第一区域、所述第二区域 以及所述第三区域具有一接触点，且所述第一区域内靠近所述接触点的所述第一颜色 子像素、所述第二区域内靠近所述接触点的所述第二颜色子像素以及所述第三区域内 靠近所述接触点的第三颜色子像素构成所述像素单元。

7.如权利要求1所述的像素阵列，其特征在于，每一第一颜色子像素、每一第 二颜色子像素以及每一第三颜色子像素各自包括：

一驱动元件；

一第一电极，与所述驱动元件电连接；

一发光层，位于所述第一电极上：以及

一第二电极，位于所述发光层上。

8.如权利要求7所述的像素阵列，其特征在于：

在所述第一区域中，所述至少两个第一颜色子像素的所述发光层为同一膜层；

在所述第二区域中，所述至少两个第二颜色子像素的所述发光层为同一膜层；以 及

在所述第三区域中，所述至少两个第三颜色子像素的所述发光层为同一膜层。

9.如权利要求7所述的像素阵列，其特征在于：

所述至少两个第一颜色子像素的所述发光层填满所述第一区域；

所述至少两个第二颜色子像素的所述发光层填满所述第二区域；以及

所述至少两个第三颜色子像素的所述发光层填满所述第三区域。

10.权利要求1所述的像素阵列，其特征在于，所述第一区域、所述第二区域以 及所述第三区域之间形成一间隙区域，且所述间隙区域具有一黑色矩阵材料。