[发明专利]一种新型全熔高效坩埚的制备方法

权利要求书

1.一种新型全熔高效坩埚，其特征在于，包括坩埚母体，所述坩埚母体底部设有形核源粘结层，所述形核源粘结层为粘结浆料，通过刷涂的方式均匀分布在坩埚母体底部内表面；所述形核源粘结层上设有形核源层，所述形核源层为高纯微球状石英砂；所述坩埚母体内部侧壁以及形核源层上均匀设有脱模层，所述脱模层为高纯微球状石英砂，通过喷涂的方式将所述高纯微球状石英砂分布在坩埚母体内部侧壁以及形核源层上；所述坩埚底部脱模层外部喷涂有高纯硅微粉。

2.一种新型全熔高效坩埚，其特征在于，其制备方法如下：

（1）刷涂形核源粘结层，在普通石英坩埚底部刷涂一层粘结浆料，作为形核源粘结层；

（2）在刷涂好形核源粘结层的坩埚底部，通过洒涂的方式均匀铺设一层高纯微球状石英砂，作为形核源层；

（3）喷涂氮化硅，在铺设好形核源层的坩埚底部和坩埚四壁利用喷涂的方式涂一层高纯氮化硅；

（4）喷涂高纯硅微粉，将高纯硅微粉喷涂在坩埚底部，喷涂时将坩埚放置在加热架上加热，加热架温度设定为120℃，喷涂后继续加热1h，加热完成后，即可。

3.如权利要求1所述的一种新型全熔高效坩埚，其特征在于，所述坩埚母体的外径尺寸为885~890mm，内径为845~850mm，高度为480mm，坩埚自身纯度在4N以上。

4.如权利要求1所述的一种新型全熔高效坩埚，其特征在于，所述粘结浆料为高纯石英砂料浆和高纯硅溶胶中的一种或两种。

5.如权利要求1所述的一种新型全熔高效坩埚，其特征在于，所述微球状高纯石英砂粒径分布为40~100目。

6.如权利要求1所述的一种新型全熔高效坩埚，其特征在于，所述微球状高纯石英砂制备方法为水热法制备，纯度在5.5N以上，并通过洒涂的方式均匀分布在坩埚底部，每埚石英砂用量在150~300g之间。

7.如权利要求1所述的一种新型全熔高效坩埚，其特征在于，所述高纯氮化硅的喷涂方式为坩埚四壁和底部分开喷涂，坩埚底部氮化硅用量在100g~150g/埚，侧边用量在300~450g/埚，所述高纯氮化硅纯度在5.5N以上。

8.如权利要求1所述的一种新型全熔高效坩埚，其特征在于，所述高纯硅微粉纯度在5N以上，粒径分布在2~5um之间。

9.如权利要求1所述的一种新型全熔高效坩埚，其特征在于，所述高纯硅微粉在喷涂时，为将硅微粉与纯水按照1：1~1：4的比例混合后喷涂在坩埚底部。