[发明专利]具有亲液部与疏液部的基材的制造方法及其应用及组合物

权利要求书

1.一种具有亲液部与疏液部的基材的制造方法，其特征在于：包括下述(1)至(3)的工序，制造具有亲液部与疏液部的基材，

(1)涂布组合物而形成涂膜的工序，其中所述组合物含有：

[A]具有选自含有缩醛键的基团或含有硅原子的基团中的至少一个基团的聚合物，所述含有缩醛键的基团或含有硅原子的基团为酸解离性基，所述含有缩醛键的基团为含有氟原子的酸解离性基、

[B]酸产生剂化合物、及

与[A]不同的聚合物[C]，所述与[A]不同的聚合物[C]为具有选自(甲基)丙烯酰基、环氧基、乙烯基中的至少一个聚合性基的聚合物；

(2)对所述涂膜的既定部分进行放射线照射的工序；以及

(3)对所述放射线照射后的涂膜进行加热的工序。

2.根据权利要求1所述的具有亲液部与疏液部的基材的制造方法，其特征在于：由所述工序(2)所得的放射线照射部与未经放射线照射部对十四烷的接触角差为30°以上。

3.根据权利要求1或2所述的具有亲液部与疏液部的基材的制造方法，其特征在于：所述与[A]不同的聚合物[C]为选自由丙烯酸系树脂、聚酰亚胺、聚硅氧烷、环状烯烃系树脂、聚醚、聚碳酸酯、聚酯、环氧树脂、酚树脂、聚酰胺所组成的组群中的至少一种。

4.根据权利要求1或2所述的具有亲液部与疏液部的基材的制造方法，其特征在于：所述组合物还含有[F]具有乙烯性不饱和键的聚合性化合物。

5.一种组合物，其特征在于含有：

[A]具有选自含有缩醛键的基团或含有硅原子的基团中的至少一个基团的聚合物，所述含有缩醛键的基团或含有硅原子的基团为酸解离性基，所述含有缩醛键的基团为含有氟原子的酸解离性基、

[B]酸产生剂化合物、及

与[A]不同的聚合物[C]，所述与[A]不同的聚合物[C]为具有选自(甲基)丙烯酰基、环氧基、乙烯基中的至少一个聚合性基的聚合物，且用于根据权利要求1或2所述的具有亲液部与疏液部的基材的制造方法。

6.一种导电膜的形成方法，其特征在于：使用导电膜形成用组合物在通过根据权利要求1至4中任一项所述的具有亲液部与疏液部的基材的制造方法所形成的所述亲液部上形成导电膜。