[发明专利]一种掩膜板有效
| 申请号： | 201510714183.8 | 申请日： | 2015-10-29 |
| 公开（公告）号： | CN105159025B | 公开（公告）日： | 2019-07-23 |
| 发明（设计）人： | 许卓;白雅杰;王小元;金在光;尚飞 | 申请（专利权）人： | 重庆京东方光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F1/00 | 分类号： | G03F1/00 |
| 代理公司： | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人： | 柴亮;张天舒 |
| 地址： | 400714 重庆市北碚区*** | 国省代码： | 重庆;50 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 掩膜板 | ||
1.一种掩膜板，其特征在于，包括过孔图案，所述过孔图案包括主体部分和与主体部分连接并朝向所述主体部分外侧的至少2个突出部分；
所述主体部分的尺寸大于曝光机解像尺寸；
所述突出部分包括尺寸大于曝光机解像尺寸的第一突出部分；
所述突出部分为3个或4个。
2.如权利要求1所述的掩膜板，其特征在于，所述突出部分包括远离所述主体部分的尺寸小于曝光机解像尺寸的第二突出部分。
3.如权利要求1所述的掩膜板，其特征在于，所述突出部分之间的夹角相等。
4.如权利要求3所述的掩膜板，其特征在于，所述突出部分为3个，所述3个突出部分之间的夹角均为120°。
5.如权利要求3所述的掩膜板，其特征在于，所述突出部分为4个，所述4个突出部分之间的夹角均为90°。
6.如权利要求1所述的掩膜板，其特征在于，每个所述突出部分的形状和尺寸相同。
7.如权利要求1所述的掩膜板，其特征在于，所述突出部分为等腰梯形、等腰三角形、椭圆形中的任意一种。
8.如权利要求7所述的掩膜板，其特征在于，所述等腰梯形包括靠近所述主体部分为第一突出部分及远离所述主体部分为第二突出部分；
所述等腰三角形包括靠近所述主体部分为第一突出部分及远离所述主体部分为第二突出部分；
所述椭圆形包括靠近所述主体部分为第一突出部分及远离所述主体部分为第二突出部分。
9.如权利要求1所述的掩膜板，其特征在于，所述主体部分和所述突出部分的边缘相吻合。
10.如权利要求1所述的掩膜板，其特征在于，所述过孔图案的等效正方形的边长在3-15μm的范围内。
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G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
