[发明专利]一种绝缘子RTV涂层厚度的测量方法有效

专利信息
申请号: 201510733835.2 申请日: 2015-11-02
公开(公告)号: CN105352443A 公开(公告)日: 2016-02-24
发明(设计)人: 王希林;王晗;叶蔚安;贾志东 申请(专利权)人: 清华大学深圳研究生院
主分类号: G01B11/06 分类号: G01B11/06
代理公司: 深圳新创友知识产权代理有限公司 44223 代理人: 杨洪龙
地址: 518055 广东*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 一种 绝缘子 rtv 涂层 厚度 测量方法
【权利要求书】:

1.一种绝缘子RTV涂层厚度的测量方法,其特征是,包括如下步骤:

S1、用设定的脉冲激光对RTV涂层进行轰击,记录所述RTV涂层被击穿时激光的轰击次数x;

S2、根据f(x)=ax+b计算所述RTV涂层的厚度f(x);

其中,参数a和b通过如下实验步骤确定:

用所述设定的脉冲激光对所述RTV涂层进行轰击,记录击穿的RTV涂层的厚度与对应激光轰击的次数;

拟合曲线f(x)=ax+b,得到所述参数a和b。

2.如权利要求1所述的绝缘子RTV涂层厚度的测量方法,其特征是,在步骤S1之前,还包括如下步骤:

确定当前测量的RTV涂层的材料是否与所述实验步骤中的RTV涂层是否相同,如相同则执行步骤S1。

3.如权利要求1所述的绝缘子RTV涂层厚度的测量方法,其特征是,在步骤S1中,通过如下步骤确定所述RTV涂层被击穿时激光的轰击次数x:

S11、所述脉冲激光每轰击一次所述RTV涂层,记录轰击产生的发射光谱,并记录所述发射光谱中碳线和硅线的强度;

S22、当所述发射光谱中碳线强度出现极小值、且硅线强度上升时,则判断所述RTV涂层被击穿,记录此时激光的轰击次数x。

4.如权利要求1所述的绝缘子RTV涂层厚度的测量方法,其特征是,

在步骤S1中,调整激光器的透镜,使所述激光器的聚焦焦点位于所述RTV涂层的上表面的下方设定位置。

5.如权利要求4所述的绝缘子RTV涂层厚度的测量方法,其特征是,聚焦焦点位于所述RTV涂层的上表面的下方、且至所述RTV涂层的上表面的距离不超过0.05mm。

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