[发明专利]一种刻蚀装置及晶圆片单面刻蚀方法

权利要求书

1.一种刻蚀装置，应用于晶圆片湿法刻蚀，其特征在于，包括：

底座；

设置于所述底座上的多个夹片环，相邻夹片环之间用于放置至少两个晶圆片，所述晶圆片的待刻蚀面朝向与其相邻的所述夹片环，且所述夹片环呈圆环形，其侧壁包括至少一个进液槽；

设置于所述底座上的夹紧装置，所述夹紧装置用于夹紧放置在所述底座上的多个夹片环和多个晶圆片。

2.根据权利要求1所述的刻蚀装置，其特征在于，所述刻蚀装置还包括：位于所述夹片环外侧面的至少一个定位块，设置于所述底座内表面的定位台；

所述定位块的侧面与所述定位台的侧面接触，用于使所述夹片环稳定放置在所述定位台上。

3.根据权利要求2所述的刻蚀装置，其特征在于，所述定位台的内表面为圆弧面，其半径等于所述夹片环的半径。

4.根据权利要求3所述的刻蚀装置，其特征在于，所述定位块的数量大于或等于两个，所述定位台的内表面的弧长小于或等于所述夹片环任意相邻两个定位块之间的弧长。

5.根据权利要求3所述的刻蚀装置，其特征在于，所述底座内表面为圆弧面，其半径等于所述夹片环半径与所述定位台沿所述夹片环径向方向的长度之和。

6.根据权利要求2所述的刻蚀装置，其特征在于，所述定位块沿所述夹片环径向方向的长度大于等于5mm。

7.根据权利要求1所述的刻蚀装置，其特征在于，所述夹紧装置包括螺纹杆、夹持板、第一固定板和第二固定板；其中，

所述第一固定板和第二固定板相对设置于所述底座两端，所述第一固定板设置有螺纹孔；

所述夹持板设置于所述第一固定板和第二固定板之间，所述夹持板与所述第二固定板之间用于放置所述夹片环和所述晶圆片；

所述螺纹杆通过所述螺纹孔与所述第一固定板螺纹连接；

所述夹持板与所述螺纹杆抵接，当所述螺纹杆向所述第二固定板方向旋进时推动所述夹持板夹紧所述夹片环和所述晶圆片。

8.根据权利要求1所述的刻蚀装置，其特征在于，所述夹片环的直径的取值范围为30mm-200mm，包括端点值。

9.根据权利要求1所述的刻蚀装置，其特征在于，所述刻蚀装置采用的材料为耐腐蚀材料。

10.根据权利要求9所述的刻蚀装置，其特征在于，所述耐腐蚀材料为聚氯乙烯或聚四氟乙烯或聚丙烯。

11.一种晶圆片的单面刻蚀方法，应用于权利要求1-10任一项所述的刻蚀装置，其特征在于，包括：

将多个所述夹片环放置在所述底座上；

在每两个相邻的夹片环之间放置至少两个晶圆片，所述晶圆片的待刻蚀面朝向与其相邻的所述夹片环；

利用所述夹紧装置夹紧所述夹片环和晶圆片；

通过所述夹片环的进液槽注入腐蚀液体，对所述晶圆片的待刻蚀面进行刻蚀。

12.根据权利要求11所述的刻蚀方法，其特征在于，将多个所述夹片环放置在所述底座上之后，在每两个相邻的夹片环之间放置至少两个紧贴的晶圆片之前还包括：

将所述晶圆片浸水，以利用水的张力使所述晶圆片贴紧。

13.根据权利要求11所述的刻蚀方法，其特征在于，通过所述夹片环的进液槽注入腐蚀液体，对所述晶圆片的待刻蚀面进行刻蚀包括：

将所述夹紧装置、所述夹片环和所述晶圆片浸入腐蚀液体中；

所述腐蚀液体通过所述夹片环的进液槽注入所述刻蚀装置，对所述晶圆片的待刻蚀面进行刻蚀。