[发明专利]封装方法有效

专利信息
申请号: 201510747383.3 申请日: 2015-11-05
公开(公告)号: CN105374731A 公开(公告)日: 2016-03-02
发明(设计)人: 石磊 申请(专利权)人: 南通富士通微电子股份有限公司
主分类号: H01L21/683 分类号: H01L21/683;H01L21/68;H01L21/78
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 徐文欣;吴敏
地址: 226006 江*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 封装 方法
【说明书】:

技术领域

发明涉及半导体制造技术领域,尤其涉及一种封装方法。

背景技术

晶圆级封装(WaferLevelPackaging,简称WLP)技术是对整片晶圆进行 封装测试后再切割得到单个成品芯片的技术,封装后的芯片尺寸与裸片完全 一致。与陶瓷无引线芯片载具(CeramicLeadlessChipCarrier)或有机无引线 芯片载具(OrganicLeadlessChipCarrier)等模式相比,晶圆级封装技术具有 更轻、更小、更短、更薄以及更廉价等优点。经晶圆级封装技术封装后的芯 片尺寸能够达到高度微型化,则芯片的制造成本随着芯片尺寸的减小和晶圆 尺寸的增大而显著降低。晶圆级封装技术是可以将IC设计、晶圆制造、封装 测试、基板制造整合为一体的技术,是当前封装领域的热点和未来发展的趋 势。

扇出晶圆封装是晶圆级封装的一种。扇出晶圆封装方法包括以下工艺步 骤:在载体表面形成剥离膜,并在剥离膜表面形成第一介质层,在第一介质 层上形成第一图形层,所述第一图形层具有第一开口;在第一开口内形成用 于与基板端连接的第一金属电极,在第一图形层表面形成再布线金属层;在 第一金属电极表面、再布线金属层表面以及第一介质层表面形成第二介质层, 并在第二介质层表面形成第二图形层,所述第二图形层具有第二开口;在第 二开口内形成用于与芯片端连接的第二金属电极;将芯片倒装至第二金属电 极后,在第二介质层和芯片表面形成塑封层,所述塑封层包围所述芯片,形 成封装结构;将载体和剥离膜与封装结构分离;植球回流,形成焊球;单片 切割,形成扇出芯片封装结构。

然而,现有的晶圆级封装技术的可靠性较差,以现有的晶圆级封装技术 形成的封装结构良率较低。

发明内容

本发明解决的问题是提供一种封装方法,提高封装产品的良率和可靠性。

为解决上述问题,本发明提供一种封装方法,包括:

提供载板,所述载板包括若干芯片区以及位于相邻芯片区之间的切割区, 所述载板包括第一表面;

在所述载板第一表面的切割区内形成若干凹槽;

提供芯片,所述芯片包括相对的功能面和非功能面;

将所述芯片的功能面与载板芯片区的第一表面固定;

在所述载板第一表面和芯片表面形成塑封层;

去除所述载板,所述塑封层的表面暴露出芯片的功能面;

在所述塑封层表面和芯片的功能面形成再布线结构;

对所述塑封层和再布线结构进行切割,使若干芯片相互分立,形成独立 的封装结构。

可选的,将所述芯片的功能面与载板芯片区的第一表面固定的步骤包括: 在所述芯片的功能面粘贴第一粘结层;将所述第一粘结层与载板芯片区的第 一表面相互粘接,以固定芯片的功能面和载板芯片区的第一表面。

可选的,将所述芯片的功能面与载板芯片区的第一表面固定的步骤包括: 在所述载板的第一表面涂布第二粘结层;将芯片的功能面粘接于所述第二粘 结层表面,并使所述芯片位于载板芯片区内。

可选的,在所述载板第一表面的切割区内形成若干凹槽的工艺为激光切 割工艺。

可选的,在所述载板第一表面的切割区内形成若干凹槽的步骤包括:在 所述载板的第一表面形成掩膜层,所述掩膜层暴露出载板的切割区;以所述 掩膜层为掩膜,刻蚀所述载板,在所述载板的第一表面形成凹槽。

可选的,所述刻蚀工艺为干法刻蚀工艺或湿法刻蚀工艺。

可选的,所述凹槽垂直于载板第一表面方向的横截面形状为V型或U型; 当所述凹槽的横截面形状为V型时,所述凹槽的底部尺寸小于顶部尺寸,所 述凹槽底部具有顶角;当所述凹槽的横截面形状为U型时,所述凹槽的侧壁 垂直于载板的第一表面。

可选的,所述若干芯片区沿第一方向和第二方向呈阵列排列,所述第一 方向和第二方向相互垂直。

可选的,所述凹槽分别平行于第一方向和第二方向。

可选的,所述芯片的功能面表面暴露出焊垫。

可选的,所述焊垫表面低于或齐平于所述芯片的功能面。

可选的,还包括:在去除所述载板之后,形成所述再布线结构之前,对 所述塑封层表面和芯片的功能面进行清洗。

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