[发明专利]具有亮点缺陷的像素的修复方法、阵列基板及液晶面板有效

专利信息
申请号: 201510760127.8 申请日: 2015-11-10
公开(公告)号: CN105425433B 公开(公告)日: 2018-10-30
发明(设计)人: 阙祥灯 申请(专利权)人: 深圳市华星光电技术有限公司
主分类号: G02F1/13 分类号: G02F1/13;G02F1/1362;H01L27/12
代理公司: 深圳市铭粤知识产权代理有限公司 44304 代理人: 孙伟峰;武岑飞
地址: 518132 广东*** 国省代码: 广东;44
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 具有 亮点 缺陷 像素 修复 方法 阵列 液晶面板
【权利要求书】:

1.一种具有亮点缺陷的像素的修复方法,所述像素设置在开关区域(10a)及位于所述开关区域(10a)一侧的像素区域(10b)中;

所述像素包括:

在所述开关区域(10a)和所述像素区域(10b)中形成的连续的公共电极(130);

在所述开关区域(10a)中形成的且位于所述公共电极(130)之上的薄膜晶体管;

在所述开关区域(10a)和所述像素区域(10b)形成的且覆盖薄膜晶体管的钝化层以及在位于所述开关区域(10a)中的所述钝化层中形成的过孔;

在所述像素区域(10b)和所述开关区域(10a)中形成的且位于所述钝化层之上的像素电极(113);

其特征在于,所述修复方法包括:

在所述过孔中打点熔融,使所述像素电极(113)与所述薄膜晶体管的漏电极(112b)连接接触;

将所述连续的公共电极(130)切断分离,以使位于所述开关区域(10a)的公共电极(130)和位于所述像素区域(10b)的公共电极(130)彼此分离;

将位于所述公共电极(130)的切断分离处之上的像素电极(113)去除,且使位于所述开关区域(10a)的像素电极(113)和位于所述像素区域(10b)的像素电极(113)彼此连接,同时使剩余的像素电极(113)与所述漏电极(112b)连接,从而将所述具有亮点缺陷的像素形成为不具有存储电容器的像素。

2.根据权利要求1所述的修复方法,其特征在于,在所述过孔中打点熔融的具体方法为:利用激光在所述过孔中打点熔融,使所述像素电极(113)与所述薄膜晶体管的漏电极(112b)连接接触。

3.根据权利要求1或2所述的修复方法,其特征在于,所述公共电极(130)包括:位于所述开关区域(10a)的主体部(131)及由所述主体部(131)延伸到所述像素区域(10b)中的多条平行的延伸部(132);

其中,将所述连续的公共电极(130)切断分离的具体方法为:利用激光在所述主体部(131)与各所述延伸部(132)的交汇处进行切割,以使所述主体部(131)与各所述延伸部(132)以及各所述延伸部(132)之间相互独立。

4.根据权利要求3所述的修复方法,其特征在于,将位于所述公共电极(130)的切断分离处之上的像素电极(113)去除的具体方法为:将位于所述主体部(131)与各所述延伸部(132)的交汇处之上的像素电极(113)去除。

5.一种阵列基板,其特征在于,包括阵列排布的多个像素,所述像素设置在开关区域(10a)及位于开关区域(10a)一侧的像素区域(10b)中;

所述像素包括:

在所述开关区域(10a)和所述像素区域(10b)中形成的连续的公共电极(130);

在所述开关区域(10a)中形成的且位于所述公共电极(130)之上的薄膜晶体管;

在所述开关区域(10a)和所述像素区域(10b)形成的且覆盖薄膜晶体管的钝化层以及在位于所述开关区域(10a)中的所述钝化层中形成的过孔;

在所述像素区域(10b)和所述开关区域(10a)中形成的且位于所述钝化层之上的像素电极(113);

其中,所述阵列基板上的所述像素出现亮 点缺陷,对所述阵列基板上出现亮点缺陷的像素进行修复的方法包括:

在所述过孔中打点熔融,使所述像素电极(113)与所述薄膜晶体管的漏电极(112b)连接接触;

将所述连续的公共电极(130)切断分离,以使位于所述开关区域(10a)的公共电极(130)和位于所述像素区域(10b)的公共电极(130)彼此分离;

将位于所述公共电极(130)的切断分离处之上的像素电极(113)去除,且使位于所述开关区域(10a)的像素电极(113)和位于所述像素区域(10b)的像素电极(113)彼此连接,同时使剩余的像素电极(113)与所述漏电极(112b)连接,从而将所述具有亮点缺陷的像素形成为不具有存储电容器的像素。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于深圳市华星光电技术有限公司,未经深圳市华星光电技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201510760127.8/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top