[发明专利]具有亮点缺陷的像素的修复方法、阵列基板及液晶面板有效
申请号: | 201510760127.8 | 申请日: | 2015-11-10 |
公开(公告)号: | CN105425433B | 公开(公告)日: | 2018-10-30 |
发明(设计)人: | 阙祥灯 | 申请(专利权)人: | 深圳市华星光电技术有限公司 |
主分类号: | G02F1/13 | 分类号: | G02F1/13;G02F1/1362;H01L27/12 |
代理公司: | 深圳市铭粤知识产权代理有限公司 44304 | 代理人: | 孙伟峰;武岑飞 |
地址: | 518132 广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 具有 亮点 缺陷 像素 修复 方法 阵列 液晶面板 | ||
1.一种具有亮点缺陷的像素的修复方法,所述像素设置在开关区域(10a)及位于所述开关区域(10a)一侧的像素区域(10b)中;
所述像素包括:
在所述开关区域(10a)和所述像素区域(10b)中形成的连续的公共电极(130);
在所述开关区域(10a)中形成的且位于所述公共电极(130)之上的薄膜晶体管;
在所述开关区域(10a)和所述像素区域(10b)形成的且覆盖薄膜晶体管的钝化层以及在位于所述开关区域(10a)中的所述钝化层中形成的过孔;
在所述像素区域(10b)和所述开关区域(10a)中形成的且位于所述钝化层之上的像素电极(113);
其特征在于,所述修复方法包括:
在所述过孔中打点熔融,使所述像素电极(113)与所述薄膜晶体管的漏电极(112b)连接接触;
将所述连续的公共电极(130)切断分离,以使位于所述开关区域(10a)的公共电极(130)和位于所述像素区域(10b)的公共电极(130)彼此分离;
将位于所述公共电极(130)的切断分离处之上的像素电极(113)去除,且使位于所述开关区域(10a)的像素电极(113)和位于所述像素区域(10b)的像素电极(113)彼此连接,同时使剩余的像素电极(113)与所述漏电极(112b)连接,从而将所述具有亮点缺陷的像素形成为不具有存储电容器的像素。
2.根据权利要求1所述的修复方法,其特征在于,在所述过孔中打点熔融的具体方法为:利用激光在所述过孔中打点熔融,使所述像素电极(113)与所述薄膜晶体管的漏电极(112b)连接接触。
3.根据权利要求1或2所述的修复方法,其特征在于,所述公共电极(130)包括:位于所述开关区域(10a)的主体部(131)及由所述主体部(131)延伸到所述像素区域(10b)中的多条平行的延伸部(132);
其中,将所述连续的公共电极(130)切断分离的具体方法为:利用激光在所述主体部(131)与各所述延伸部(132)的交汇处进行切割,以使所述主体部(131)与各所述延伸部(132)以及各所述延伸部(132)之间相互独立。
4.根据权利要求3所述的修复方法,其特征在于,将位于所述公共电极(130)的切断分离处之上的像素电极(113)去除的具体方法为:将位于所述主体部(131)与各所述延伸部(132)的交汇处之上的像素电极(113)去除。
5.一种阵列基板,其特征在于,包括阵列排布的多个像素,所述像素设置在开关区域(10a)及位于开关区域(10a)一侧的像素区域(10b)中;
所述像素包括:
在所述开关区域(10a)和所述像素区域(10b)中形成的连续的公共电极(130);
在所述开关区域(10a)中形成的且位于所述公共电极(130)之上的薄膜晶体管;
在所述开关区域(10a)和所述像素区域(10b)形成的且覆盖薄膜晶体管的钝化层以及在位于所述开关区域(10a)中的所述钝化层中形成的过孔;
在所述像素区域(10b)和所述开关区域(10a)中形成的且位于所述钝化层之上的像素电极(113);
其中,所述阵列基板上的所述像素出现亮 点缺陷,对所述阵列基板上出现亮点缺陷的像素进行修复的方法包括:
在所述过孔中打点熔融,使所述像素电极(113)与所述薄膜晶体管的漏电极(112b)连接接触;
将所述连续的公共电极(130)切断分离,以使位于所述开关区域(10a)的公共电极(130)和位于所述像素区域(10b)的公共电极(130)彼此分离;
将位于所述公共电极(130)的切断分离处之上的像素电极(113)去除,且使位于所述开关区域(10a)的像素电极(113)和位于所述像素区域(10b)的像素电极(113)彼此连接,同时使剩余的像素电极(113)与所述漏电极(112b)连接,从而将所述具有亮点缺陷的像素形成为不具有存储电容器的像素。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于深圳市华星光电技术有限公司,未经深圳市华星光电技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201510760127.8/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。