[发明专利]量子点彩膜基板的制备方法及量子点彩膜基板

权利要求书

1.一种量子点彩膜基板的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：

步骤1、提供基板(10)，所述基板(10)包括红色子像素区域、绿色子像素区域、及蓝色子像素区域；

步骤2、在所述基板(10)上分别对应所述红色子像素区域、绿色子像素区域、及蓝色子像素区域形成图形化的红色色阻层(21)、图形化的绿色色阻层(22)、及图形化的有机透明光阻层(23)；得到包含红色色阻层(21)、绿色色阻层(22)、及有机透明光阻层(23)的彩色滤光层(20)；在所述彩色滤光层(20)上形成一层色阻保护层(20’)；

步骤3、在所述色阻保护层(20’)上涂布一层量子点溶液，所述量子点溶液为经处理后具有油溶性的红色量子点材料及绿色量子点材料分散于溶剂中而得到；加热使量子点溶液内的溶剂挥发；多次重复进行涂布量子点溶液和加热使量子点溶液内的溶剂挥发的过程，得到均匀膜厚的量子点层(30)；

步骤4、在所述量子点层(30)上涂布一层有机透明光阻材料(50’)，通过黄光制程图形化该层有机透明光阻材料(50’)，去掉该层有机透明光阻材料(50’)位于所述蓝色子像素区域上的部分，得到光阻层(50)；

步骤5、以所述光阻层(50)为遮蔽层，采用能够猝灭量子点荧光的猝灭剂对所述量子点层(30)进行选择性量子点猝灭，其中，所述量子点层(30)的位于所述红色子像素区域和绿色子像素区域上的部分被所述光阻层(50)覆盖而受到保护，其内的量子点材料不发生猝灭，得到所述量子点层(30)的第一量子点层(31)，所述量子点层(30)的位于所述蓝色子像素区域上的部分没有被所述光阻层(50)覆盖保护，其内的量子点材料被所述猝灭剂荧光猝灭，得到所述量子点层(30)的第二量子点层(32)；

步骤6、在所述光阻层(50)及所述量子点层(30)上涂布固化胶，所述固化胶经热固化后与所述光阻层(50)共同形成保护层(40)。

2.如权利要求1所述的量子点彩膜基板的制备方法，其特征在于，所述量子点溶液内的溶剂为石油醚、二氯甲烷、或乙酸乙酯。

3.如权利要求1所述的量子点彩膜基板的制备方法，其特征在于，所述量子点溶液内的量子点材料为Ⅱ-Ⅵ族量子点材料、Ⅲ-V族量子点材料中的一种或多种。

4.如权利要求3所述的量子点彩膜基板的制备方法，其特征在于，所述量子点胶内的量子点材料为ZnCdSe₂，CdSe，CdTe，InP，InAs中的一种或多种。

5.如权利要求1所述的量子点彩膜基板的制备方法，其特征在于，所述步骤3中，形成的量子点层(30)的厚度为0.5-5μm。

6.如权利要求1所述的量子点彩膜基板的制备方法，其特征在于，所述步骤5中，所述猝灭剂为具有吸电子能力的有机试剂。

7.如权利要求6所述的量子点彩膜基板的制备方法，其特征在于，所述猝灭剂为12-烷基硫醇、14-烷基硫醇、或吡啶的非极性溶液；所述猝灭剂的浓度为0.2～4mol/L。

8.一种量子点彩膜基板，其特征在于，包括，基板(10)、位于所述基板(10)上的彩色滤光层(20)、位于所述彩色滤光层(20)上的色阻保护层(20’)、位于所述色阻保护层(20’)上的量子点层(30)、及位于所述量子点层(30)上的保护层(40)；

所述基板(10)包括红色子像素区域、绿色子像素区域、及蓝色子像素区域；所述彩色滤光层(20)包括分别位于所述红色子像素区域、绿色子像素区域、及蓝色子像素区域上的红色色阻层(21)、绿色色阻层(22)、及有机透明光阻层(23)；

所述量子点层(30)包括位于所述红色子像素区域和绿色子像素区域上的第一量子点层(31)、及位于所述蓝色子像素区域上的第二量子点层(32)；所述量子点层(30)由包含红色量子点材料及绿色量子点材料的量子点溶液经溶剂挥发后得到；

所述第一量子点层(31)内的红色量子点材料、绿色量子点材料在蓝光激发下分别发出红光与绿光；所述第二量子点层(32)内量子点材料为被猝灭剂荧光猝灭的量子点材料，所述第二量子点层(32)内量子点材料在光照下不发光；

所述量子点彩膜基板用于背光为蓝光的显示装置中。

9.如权利要求8所述的量子点彩膜基板，其特征在于，所述显示装置为液晶显示装置、有机电致发光显示装置、或者量子点电致发光显示装置。

10.如权利要求8所述的量子点彩膜基板，其特征在于，所述量子点层(30)的厚度为0.5-5μm。