[发明专利]一种磁控溅射制备耐酸碱纳米哈氏合金涂层的方法

权利要求书

1.一种磁控溅射制备耐酸碱纳米哈氏合金涂层的方法，包括：

将哈氏合金作为靶材，同时将低碳钢作为基片置于基片架上，进行磁控溅射沉积，在低碳钢表面沉积一层哈氏合金涂层；其中磁控溅射沉积过程中工作气压为0.1-0.18Pa，N₂流速为20-24mL/min，靶材由中频脉冲电源控制，固定功率为350-400W，频率为80-100kHz；沉积过程中，基片施加-90V的中频脉冲偏压，基片温度控制为260-300℃，沉积时间为1-2h。

2.根据权利要求1所述的一种磁控溅射制备耐酸碱纳米哈氏合金涂层的方法，其特征在于：所述哈氏合金为C-276哈氏合金；低碳钢为Q235低碳钢。

3.根据权利要求1所述的一种磁控溅射制备耐酸碱纳米哈氏合金涂层的方法，其特征在于：低碳钢经超声清洗，并用氮气吹净后置于基片架上。

4.根据权利要求3所述的一种磁控溅射制备耐酸碱纳米哈氏合金涂层的方法，其特征在于：所述超声清洗为经过丙酮、乙醇和去离子水超声清洗。

5.根据权利要求1所述的一种磁控溅射制备耐酸碱纳米哈氏合金涂层的方法，其特征在于：基片到靶材的距离为7-10cm。

6.根据权利要求1所述的一种磁控溅射制备耐酸碱纳米哈氏合金涂层的方法，其特征在于：磁控溅射沉积前背底真空小于8×10^-5Pa。

7.根据权利要求1所述的一种磁控溅射制备耐酸碱纳米哈氏合金涂层的方法，其特征在于：磁控溅射沉积前进行10-20min的预溅射来清理靶表面。

8.根据权利要求1所述的一种磁控溅射制备耐酸碱纳米哈氏合金涂层的方法，其特征在于：磁控溅射沉积过程中，样品台的转速为12-18r/min。

9.根据权利要求8所述的一种磁控溅射制备耐酸碱纳米哈氏合金涂层的方法，其特征在于：样品台的转速为14r/min。