[发明专利]一种中空halbach取向钕铁硼磁体有效

专利信息
申请号: 201510815050.X 申请日: 2015-11-23
公开(公告)号: CN105427991A 公开(公告)日: 2016-03-23
发明(设计)人: 王海涛 申请(专利权)人: 宁波尼兰德磁业有限公司
主分类号: H01F1/057 分类号: H01F1/057;H01F1/08;H01F41/02
代理公司: 宁波市鄞州盛飞专利代理事务所(普通合伙) 33243 代理人: 张向飞
地址: 315145 浙江省宁*** 国省代码: 浙江;33
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 中空 halbach 取向 钕铁硼 磁体
【权利要求书】:

1.一种中空halbach取向钕铁硼磁体,包括本体,其特征在于:所述本体为块状,所述本体内部设置有至少3个孔洞,所述孔洞包括至少两条蛇形孔道和至少一条直形孔道,其中蛇形孔道相互缠绕,相邻孔洞间壁厚大于等于0.01mm,孔洞结构区域占本体总体积的10-25%,所述本体具有磁化区,所述磁化区至少部分的磁场方向按照halbach阵列取向,所述磁化区的halbach阵列取向所形成的增强磁场在本体的外部。

2.根据权利要求1所述的中空halbach取向钕铁硼磁体,其特征在于:所述磁化区的最外层在本体的表层,并且磁化区在本体上成片状分布,且磁化区在本体中厚度相同。

3.根据权利要求2所述的中空halbach取向钕铁硼磁体,其特征在于:所述磁化区在本体中的厚度不小于0.3mm。

4.根据权利要求1至3任一所述的中空halbach取向钕铁硼磁体,其特征在于:所述磁化区总体积占本体总体积的60%以上。

5.根据权利要求1至3任一所述的中空halbach取向钕铁硼磁体,其特征在于:所述磁化区中按halbach阵列取向的部分占磁化区总体积的50%以上。

6.根据权利要求4任一所述的中空halbach取向钕铁硼磁体,其特征在于:所述磁化区中按halbach阵列取向的部分占磁化区总体积的50%以上。

7.根据权利要求1所述的中空halbach取向钕铁硼磁体,其特征在于:所述本体为合金材料经熔炼甩带、氢破制粉、成型干燥、烧结、后处理得到,其中成型时包括芯部成型和二次成型,所述芯部成型为具有孔洞部分成型,二次成型为在芯部成型基础上再次压制而完成本体的成型。

8.根据权利要求7所述的中空halbach取向钕铁硼磁体,其特征在于:所述芯部成型为以溶剂Ⅰ经冷冻固化形成孔洞填充物为芯部后,再将氢破制粉得到的粉体在溶剂Ⅱ混均制坯压制完成二次成型,其中溶剂Ⅰ的凝固点为T1,溶剂Ⅱ的凝固点为T2,并且T1大于T2。

9.根据权利要求8所述的中空halbach取向钕铁硼磁体,其特征在于:所述二次成型的压制温度大于T2且小于T1。

10.根据权利要求8所述的中空halbach取向钕铁硼磁体,其特征在于:所述溶剂Ⅰ为轻柴油Ⅰ、油精、亚油酸、亚麻酸中的一种或者几种混合物,且溶剂Ⅰ为几种混合物时,各组分之间的凝固点之差不大于1℃,其中轻柴油Ⅰ包括10号柴油、5号柴油、0号柴油、-10号柴油。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于宁波尼兰德磁业有限公司,未经宁波尼兰德磁业有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201510815050.X/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top