[发明专利]用于处理物料的设备有效
申请号: | 201510828772.9 | 申请日: | 2015-11-25 |
公开(公告)号: | CN105633211B | 公开(公告)日: | 2020-11-17 |
发明(设计)人: | W·迈尔 | 申请(专利权)人: | 艾森曼欧洲公司 |
主分类号: | H01L31/18 | 分类号: | H01L31/18;H01L21/677;F27B9/24;F27B9/30;B65G39/02 |
代理公司: | 北京市中咨律师事务所 11247 | 代理人: | 殷玲;吴鹏 |
地址: | 德国博*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 处理 物料 设备 | ||
1.一种用于处理物料的设备,该设备具有:
a)处理室(16),该处理室装备有外罩(20),该外罩将位于外罩(20)内的环境与位于外罩(20)外的环境分开,其中,位于外罩(20)内的环境是受控制的环境;
b)壳体(14),该壳体形成处理室(16)的边界;
c)至少一个至少部分地布置在处理室(16)内的、用于输送物料的传送辊(24);
d)一个或多个支承装置(34、36;64、66),其布置在壳体(14)外且借助于该支承装置支承至少一个传送辊(24);
其特征在于,
e)在至少一个支承装置(64、66)与壳体(14)的、对应于支承装置(64、66)的壁之间设有柔性的补偿元件(76、78);
f)设有与补偿元件(76、78)相连的密封布置结构(93、95),该密封布置结构将至少一个支承装置(64、66)与位于外罩(20)内的环境分开;
g)密封布置结构(93、95)具有接纳元件,该接纳元件运动学地与传送辊(24)耦合,该接纳元件设计为片材形式,且该接纳元件在垂直于传送辊(24)的转动轴线的平面中延伸;以及
h)密封布置结构(95)具有密封元件(92),该密封元件(92)布置在补偿元件(76、78)与密封布置结构(95)的接纳元件之间,使得密封布置结构(95)提供相对于接纳元件的气密密封。
2.根据权利要求1所述的设备,其特征在于,补偿元件(76、78)这样设计,从而在传送辊(24)的支承功能方面所述至少一个支承装置(64、66)与壳体(14)的壁脱耦。
3.根据权利要求1所述的设备,其特征在于,补偿元件(76、78)这样预紧地布置,使得密封布置结构(93、95)被压向所述至少一个支承装置(64、66)。
4.根据权利要求1至3中任一项所述的设备,其特征在于,壳体(14)具有一个或多个通道(30、32),所述一个或多个通道分别对应于支承装置(64或66),其中,补偿元件(76、78)这样布置在所述至少一个支承装置(64、66)与壳体(14)的、对应于所述至少一个支承装置(64、66)的壁之间,使得即使在传送辊(24)的轴线与用于传送辊(24)的通道(30或32)的轴线之间存在偏差,仍通过补偿元件(76、78)确保了密封。
5.根据权利要求1至3中任一项所述的设备,其特征在于,密封布置结构(93、95)的接纳元件这样设计,使得该接纳元件在物料输送的过程中在传送辊(24)运动时以与传送辊(24)运动学耦合的方式运动。
6.根据权利要求1至3中任一项所述的设备,其特征在于,密封布置结构(93、95)的接纳元件这样设计,使得该接纳元件在物料输送的过程中在传送辊(24)转动时以与传送辊(24)运动学耦合的方式运动。
7.根据权利要求1至3中任一项所述的设备,其特征在于,补偿元件(76、78)设计为管件形式,在该管件中布置有传送辊(24)的部分区域。
8.根据权利要求7所述的设备,其特征在于,补偿元件(76、78)是波纹管(76、78)。
9.根据权利要求1至3中任一项所述的设备,其特征在于,处理室(16)的外罩(20)、至少一个所述补偿元件(76、78)和至少一个所述密封布置结构(93、95)形成环境区域的边界,在该环境区域中存在外罩内部的受控制的环境。
10.根据权利要求9所述的设备,其特征在于,外罩(20)、至少一个所述补偿元件(76、78)和至少一个所述密封布置结构(93、95)设计为气密的。
11.根据权利要求1至3中任一项所述的设备,其特征在于,补偿元件(76、78)的至少大部分布置在壳体(14)外。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的