[发明专利]彩色滤光基板及其形成方法

权利要求书

1.一种彩色滤光基板的形成方法，其特征在于，包括：

提供基板；

在基板上形成黑色矩阵，所述黑色矩阵包括形成有多个开口的开口区和位于开口区周围的额缘区，所述额缘区包括用于形成间隔柱的第一额缘区；

在所述黑色矩阵和所述开口露出的基板上涂布彩色光阻剂，在第一额缘区涂布的光阻剂厚度小于在开口区涂布的光阻剂厚度；

图形化所述光阻剂形成彩色光阻层；

在所述彩色光阻层上形成间隔柱，所述间隔柱形成于所述第一额缘区与所述开口区相应位置处。

2.如权利要求1所述的彩色滤光基板的形成方法，其特征在于，在所述黑色矩阵和露出的基板上涂布光阻剂的步骤包括：采用狭缝涂布机在所述黑色矩阵上涂布光阻剂；

在涂布过程中，所述狭缝涂布机中狭缝的延伸方向与第一额缘区的延伸方向相同。

3.如权利要求2所述的彩色滤光基板的形成方法，其特征在于，在所述黑色矩阵和露出的基板上涂布光阻剂的步骤中，所述狭缝涂布机在第一额缘区和开口区的涂布速度相同，在第一额缘区的光阻吐出量小于在开口区的光阻吐出量。

4.如权利要求3所述的彩色滤光基板的形成方法，其特征在于，第一额缘区的光阻吐出量为1800～3500μL/s；开口区的光阻吐出量为1500～2500μL/s。

5.如权利要求2所述的彩色滤光基板的形成方法，其特征在于，在所述黑色矩阵和所述开口露出的基板上涂布光阻剂的步骤中，所述狭缝涂布机在第一额缘区和开口区的光阻吐出量相同，在第一额缘区的涂布速度大于在开口区的涂布速度。

6.如权利要求5所述的彩色滤光基板的形成方法，其特征在于，第一额缘区的涂布速度为90～150mm/s；开口区的涂布速度为80～140mm/s。

7.如权利要求1所述的彩色滤光基板的形成方法，其特征在于，图形化所述 光阻剂形成彩色光阻层的步骤包括：使形成于所述开口区间隔柱下方的彩色光阻层的厚度大于或等于所述第一额缘区彩色光阻层的厚度。

8.如权利要求1所述的彩色滤光基板的形成方法，其特征在于，图形化所述光阻剂形成彩色光阻层的步骤包括：使开口区彩色光阻层的厚度为1.5～3.5μm，第一额缘区彩色光阻层的厚度为1.5～2.5μm。

9.如权利要求1所述的彩色滤光基板的形成方法，其特征在于，图形化所述光阻剂形成彩色光阻层的步骤包括：在开口区形成填充于开口中的多个彩色光阻；

所述多个彩色光阻呈条形、马赛克型或三角型排列。

10.如权利要求1所述的彩色滤光基板的形成方法，其特征在于，在基板上形成黑色矩阵的步骤包括：

在基板上形成多个黑色矩阵，所述黑色矩阵的开口区为长方形结构，所述额缘区为围绕所述长方形结构的方环形，所述第一额缘区为所述方环形中与长方形结构长边相邻的区域；所述多个黑色矩阵沿长方形结构长边方向和短边方向排布，形成一阵列结构；

在所述黑色矩阵和露出的基板上涂布光阻剂的步骤包括：采用狭缝涂布机通过狭缝涂布的方法在所述黑色矩阵和露出的基板上涂布光阻剂，且在涂布过程中，所述狭缝涂布机的狭缝涂布头沿长方形结构的长边方向延伸且沿宽边方向移动。

11.一种彩色滤光基板，其特征在于，包括：

基板；

位于基板上的黑色矩阵，所述黑色矩阵包括形成有多个开口的开口区和位于开口区周围的额缘区，所述额缘区包括用于形成间隔柱的第一额缘区；

位于所述黑色矩阵和所述开口所露出基板上的彩色光阻层；

位于所述彩色光阻层和第一额缘区上的间隔柱；

所述开口区间隔柱下方的彩色光阻层的厚度大于或等于所述第一额缘区彩色光阻层的厚度。

12.如权利要求11所述的彩色滤光基板，其特征在于，开口区彩色光阻层的厚度为1.5～3.5μm，第一额缘区彩色光阻层的厚度为1.5～2.5μm。

13.如权利要求11所述的彩色滤光基板，其特征在于，所述开口区间隔柱顶端相对于基板表面的高度与所述第一额缘区间隔柱顶端相对于基板表面的高度相差0～0.4μm。