[发明专利]彩色滤光基板及其形成方法

说明书

技术领域

本发明涉及液晶显示技术领域，尤其涉及一种彩色滤光基板及其形成方法。

背景技术

随着显示技术的发展，薄膜晶体管(Thin Film Transistor，TFT)液晶显示器能够实现对各个像素的独立精确控制，得到广泛关注。

彩色滤光基板(Color Filter，CF)是TFT液晶显示器的重要组成部件。在彩色滤光基板的制备过程中，由于配向膜制备工艺的需要，彩色滤光基板的额缘区增加与开口区类似的画素。

图1至图7是现有技术一种彩色滤光基板形成方法的各步骤示意图。

请参考图1，提供基板100，所述基板100包括，黑色矩阵形成区a和位于黑色矩阵形成区a周围的边缘区b。

参考图2和图3，图2是图1方框1内区域的局部放大图，图3是图2沿2-2’线的剖视图。在基板100的黑色矩阵形成区a形成黑色矩阵120。所述黑色矩阵120包括具有开口110的开口区A和位于开口区A周围的额缘区，所述额缘区包括用于形成间隔柱的第一额缘区B。所述黑色矩阵120用于防止显示器背景光泄露，提高颜色显示的对比度。

请参考图4，在所述黑色矩阵120(如图3所示)和露出的基板100上涂布光阻剂。

请参考图5和图6，对所述光阻剂进行图形化，形成彩色光阻层130。所述彩色光阻层130用于使相应颜色的背景光透过，起到滤光的作用。

重复图4和图5所示的步骤，形成全部彩色光阻层130。

请参考图7，在所述彩色光阻层130上形成间隔柱140。

然而，现有技术形成的彩色滤光基板会导致显示器周边颜色显示不均的 问题。

发明内容

本发明解决的问题是提供一种彩色滤光基板及其形成方法，用于改善滤光片基板周边颜色显示不均的效果，改善显示器的显示效果。

为解决上述问题，本发明提供一种彩色滤光基板的形成方法，包括：提供基板；在基板上形成黑色矩阵，所述黑色矩阵包括形成有多个开口的开口区和位于开口区周围的额缘区，所述额缘区包括用于形成间隔柱的第一额缘区；在所述黑色矩阵和所述开口露出的基板上涂布彩色光阻剂，在第一额缘区涂布的光阻剂厚度小于在开口区涂布的光阻剂厚度；图形化所述光阻剂形成彩色光阻层；在所述彩色光阻层上形成间隔柱，所述间隔柱形成于所述第一额缘区与所述开口区相应位置处。

可选的，在所述黑色矩阵和露出的基板上涂布光阻剂的步骤包括：采用狭缝涂布机在所述黑色矩阵上涂布光阻剂；

在涂布过程中，所述狭缝涂布机中狭缝的延伸方向与第一额缘区的延伸方向相同。

可选的，在所述黑色矩阵和露出的基板上涂布光阻剂的步骤中，所述狭缝涂布机在第一额缘区和开口区的涂布速度相同，在第一额缘区的光阻吐出量小于在开口区的光阻吐出量。

可选的，第一额缘区的光阻吐出量为1800～3500μL/s；开口区的光阻吐出量为1500～2500μL/s。

可选的，在所述黑色矩阵和所述开口露出的基板上涂布光阻剂的步骤中，所述狭缝涂布机在第一额缘区和开口区的光阻吐出量相同，在第一额缘区的涂布速度大于在开口区的涂布速度。

可选的，第一额缘区的涂布速度为90～150mm/s；开口区的涂布速度为80～140mm/s。

可选的，图形化所述光阻剂形成彩色光阻层的步骤包括：使形成于所述开口区间隔柱下方的彩色光阻层的厚度大于或等于所述第一额缘区彩色光阻 层的厚度。

可选的，图形化所述光阻剂形成彩色光阻层的步骤包括：使开口区彩色光阻层的厚度为1.5～3.5μm，第一额缘区彩色光阻层的厚度为1.5～2.5μm。

可选的，图形化所述光阻剂形成彩色光阻层的步骤包括：在开口区形成填充于开口中的多个彩色光阻；所述多个彩色光阻呈条形、马赛克型或三角型排列。

可选的，其特征在于，在基板上形成黑色矩阵的步骤包括：

在基板上形成多个黑色矩阵，所述黑色矩阵的开口区为长方形结构，所述额缘区为围绕所述长方形结构的方环形，所述第一额缘区为所述方环形中与长方形结构长边相邻的区域；所述多个黑色矩阵沿长方形结构长边方向和短边方向排布，形成一阵列结构；

在所述黑色矩阵和露出的基板上涂布光阻剂的步骤包括：采用狭缝涂布机通过狭缝涂布的方法在所述黑色矩阵和露出的基板上涂布光阻剂，且在涂布过程中，所述狭缝涂布机的狭缝涂布头沿长方形结构的长边方向延伸且沿宽边方向移动。