[发明专利]支撑单元和包括其的基板处理装置

权利要求书

1.一种基板处理装置，包括：

处理室，其内具有处理空间；

支撑单元，置于处理室内并支撑基板；

气体供给单元，将处理气体供给到处理室内；

等离子体源，使用处理气体产生等离子体；以及

内衬单元，与所述处理室的内侧壁或所述处理室内的所述支撑单元邻近或接触，

其中，所述支撑单元包括：

上板，在其上放置基板，所述上板的上表面由非导电材料形成；

电极板，放置在上板下方并由导电材料形成；和

下板，放置在电极板下方并具有环状，并且

其中在下板中提供冷却构件，所述冷却构件包括形成在下板中的下流道，冷却流体流过所述下流道，且在所述电极板中包括上流道，用于冷却上板的冷却流体流过所述上流道。

2.根据权利要求1所述的基板处理装置，进一步包括：

加热处理室的壁的加热器。

3.根据权利要求2所述的基板处理装置，其中，所述上板在其中包括静电电极，所述静电电极使用静电力吸引基板。

4.根据权利要求2所述的基板处理装置，其中，所述内衬单元包括：

内侧内衬，形成为围绕所述上板，所述电极板和所述下板中的一个，一部分或全部；和

外侧内衬，置于处理室内并形成为环状。

5.一种用于支撑基板的支撑单元，所述支撑单元包括：

上板，在其上放置基板，所述上板的上表面由非导电材料形成；

电极板，放置在所述上板下方并由导电材料形成；和

下板，放置在所述电极板下方并具有环状，

其中在所述下板中提供冷却构件，所述冷却构件包括形成在所述下板中的下流道，冷却流体流过所述下流道，且在所述电极板中包括上流道，用于冷却所述上板的冷却流体流过所述上流道。

6.根据权利要求5所述的支撑单元，其中，在所述上板中形成有用于使用静电力吸引基板的静电电极。