[发明专利]晶片的生成方法有效

专利信息
申请号: 201510854469.6 申请日: 2015-11-30
公开(公告)号: CN105665947B 公开(公告)日: 2019-02-15
发明(设计)人: 平田和也;高桥邦充;西野曜子 申请(专利权)人: 株式会社迪思科
主分类号: B23K26/53 分类号: B23K26/53;B28D5/00
代理公司: 北京三友知识产权代理有限公司 11127 代理人: 李辉;于靖帅
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 晶片 生成 方法
【说明书】:

提供晶片的生成方法。包含分离起点形成步骤,将对于六方晶单晶锭具有透过性的波长的激光束聚光点定位在距第一面相当于要生成的晶片厚度的深度,使聚光点与六方晶单晶锭相对地移动而对正面照射激光束,形成与改质层和裂痕而形成分离起点。分离起点形成步骤包含:第一分离起点形成步骤,将激光束聚光点定位在距锭的正面相当于要生成的晶片的厚度的深度的2以上整数倍的深度而形成由第一改质层和第一裂痕构成的第一分离起点;第二分离起点形成步骤,在实施了第一分离起点形成步骤之后,将激光束聚光点定位在从第一分离起点起向正面的方向减去相当于要生成的晶片的厚度的深度而得到的第二深度而形成由第二改质层和第二裂痕构成的第二分离起点。

技术领域

本发明涉及晶片的生成方法,将六方晶单晶锭切片成晶片状。

背景技术

在以硅等作为原材料的晶片的正面上层叠功能层,在该功能层上在通过多个分割预定线划分出的区域中形成有IC、LSI等各种器件。并且,通过切削装置、激光加工装置等加工装置对晶片的分割预定线实施加工,将晶片分割成各个器件芯片,分割得到的器件芯片广泛应用于移动电话、个人计算机等各种电子设备。

并且,在以SiC、GaN等六方晶单晶作为材料的晶片的正面上层叠有功能层,在所层叠的功能层上通过形成为格子状的多条分割预定线进行划分而形成有功率器件或者LED、LD等光器件。

形成有器件的晶片通常是利用线切割对锭进行切片而生成的,对切片得到的晶片的正面背面进行研磨而精加工成镜面(例如,参照日本特开2000-94221号公报)。

在该线切割中,将直径约为100~300μm的钢琴丝等一根金属丝缠绕在通常设置于二~四条间隔辅助辊上的多个槽中,按照一定间距彼此平行配置且使金属丝在一定方向或者双向上行进,将锭切片成多个晶片。

但是,当利用线切割将锭切断,并对正面背面进行研磨而生成晶片时,会浪费锭的70~80%,存在不经济这样的问题。特别是SiC、GaN等六方晶单晶锭的莫氏硬度较高,利用线切割而进行的切断很困难,花费相当长的时间,生产性较差,在高效地生成晶片方面存在课题。

为了解决这些问题,在日本特开2013-49461号公报中记载了如下技术:将对于SiC具有透过性的波长的激光束的聚光点定位在六方晶单晶锭的内部而进行照射,在切断预定面上形成改质层和裂痕,并施加外力而沿着形成有改质层和裂痕的切断预定面割断晶片,从锭分离晶片。

在该公开公报所记载的技术中,以脉冲激光束的第一照射点和距该第一照射点最近的第二照射点处于规定的位置的方式,将脉冲激光束的聚光点沿着切断预定面呈螺旋状照射,或者呈直线状照射,而在锭的切断预定面上形成非常高密度的改质层和裂痕。

专利文献1:日本特开2000-94221号公报

专利文献2:日本特开2013-49461号公报

但是,在专利文献2所记载的锭的切断方法中,激光束的照射方法相对于锭呈螺旋状或者直线状,对于在直线状的情况下扫描激光束的方向则没有任何规定。

在专利文献2所记载的锭的切断方法中,将激光束的第一照射点与距该第一照射点最近的第二照射点之间的间距设定为1μm~10μm。该间距是从改质层产生的裂纹沿着c面延伸的间距。

由于以这种方式照射激光束时的间距非常小,因此不论激光束的照射方法是螺旋状或者直线状,都需要以非常小的间距间隔照射激光束,存在无法充分实现生产性的提高这样的问题。

发明内容

本发明是鉴于这样的点而完成的,其目的在于,提供一种晶片的生成方法,能够高效地从锭生成晶片。

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