[发明专利]自主成像任务规划的模式调控方法

权利要求书

1.一种自主成像任务规划的模式调控方法，其特征在于，包括如下步骤：

步骤A，定义自主成像工作模式；

步骤B，针对自主成像工作模式确定模式调控因子；

步骤C：针对自主成像工作模式确定模式调控因子的产生方式；

定义三种自主成像工作模式：精修模式、粗修模式、机动模式；

所述精修模式，定义为实时进行偏流角修正，由相机的滚动轴摆镜机构完成成像视场调整；

所述粗修模式，定义为仅修正星下点偏流角，由相机的滚动轴摆镜机构完成成像视场调整；

所述机动模式，定义为实时进行偏流角修正，相机摆镜锁定，仅由姿控完成视场调整。

2.根据权利要求1所述的自主成像任务规划的模式调控方法，其特征在于，针对所述三种自主成像工作模式，确定五个模式调控因子：滚动基准姿态角、俯仰基准姿态角、偏航基准姿态角、基准摆镜摆角、摆镜摆角控制量。

3.根据权利要求2所述的自主成像任务规划的模式调控方法，其特征在于，所述滚动基准姿态角、俯仰基准姿态角、偏航基准姿态角、基准摆镜摆角，用于偏流角计算与偏流角修正控制，在机动模式时，所述滚动基准姿态角、俯仰基准姿态角、偏航基准姿态角还用于相机视场调整控制；

所述摆镜摆角控制量，用于实际驱动摆镜摆动的视场调整。

4.根据权利要求2所述的自主成像任务规划的模式调控方法，其特征在于，所述滚动基准姿态角、俯仰基准姿态角、偏航基准姿态角、基准摆镜摆角初始时为固定值，在对每一个地面目标进行成像任务时，进行更新。

5.根据权利要求2所述的自主成像任务规划的模式调控方法，其特征在于，模式调控因子的产生方式包括：

在精修模式下：

-滚动基准姿态角、俯仰基准姿态角、偏航基准姿态角：分别等于解算地面目标成像任务参数时依据的三轴实时滚动姿态角、俯仰姿态角、偏航姿态角，在下一个地面目标到来前，保持不变；

在粗修模式下：

-滚动基准姿态角、俯仰基准姿态角、偏航基准姿态角：任务期间始终维持上一节拍固定值，不随地面目标变化而变化；

-基准摆镜摆角：任务期间始终维持上一节拍固定值，不随地面目标变化而变化；

-摆镜摆角控制量：等于解算地面目标成像任务参数时解算出的摆角需调整角度；

在机动模式下：

-滚动基准姿态角、俯仰基准姿态角、偏航基准姿态角：需分别在当前节拍实时滚动姿态角、俯仰姿态角、偏航姿态角的基础上叠加摆镜需调整的角度；

-基准摆镜摆角：等于摆镜锁定位置角度；

-摆镜摆角控制量：等于摆镜锁定位置角度。

6.根据权利要求2所述的自主成像任务规划的模式调控方法，其特征在于，滚动基准姿态角、俯仰基准姿态角、偏航基准姿态角、基准摆镜摆角以及偏流角同时更新，以避免因为偏流角延时导致的姿态抖动。