[发明专利]一种薄膜晶体管、制造方法及其液晶显示器在审

专利信息
申请号: 201510880684.3 申请日: 2015-12-03
公开(公告)号: CN105355564A 公开(公告)日: 2016-02-24
发明(设计)人: 杨济纶;刘谦 申请(专利权)人: 友达光电股份有限公司
主分类号: H01L21/336 分类号: H01L21/336;H01L29/786;H01L29/10
代理公司: 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 代理人: 徐金国
地址: 中国台湾新竹科*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要:
搜索关键词: 一种 薄膜晶体管 制造 方法 及其 液晶显示器
【权利要求书】:

1.一种薄膜晶体管的制造方法,其特征在于,所述制造方法包括以下步骤:

形成一源极于一第一金属层,所述源极具有一斜面且电性耦接至一数据线;

形成一非晶硅层于所述源极的斜面;

形成一漏极于所述非晶硅层的上方,其中,所述漏极与所述非晶硅层相接触的表面平行于所述源极的斜面;

形成一第一钝化层于所述源极的上方以及所述漏极的上方;以及

形成一栅极于所述第一钝化层的上方,且所述栅极位于所述漏极的侧边,

其中,所述非晶硅层与所述第一金属层所在平面的夹角为锐角,且所述栅极与所述非晶硅层的接触面为尖角。

2.根据权利要求1所述的薄膜晶体管的制造方法,其特征在于,所述第一钝化层还形成于所述栅极与所述漏极之间。

3.根据权利要求1所述的薄膜晶体管的制造方法,其特征在于,所述薄膜晶体管的沟道长度由所述非晶硅层的厚度决定。

4.根据权利要求3所述的薄膜晶体管的制造方法,其特征在于,所述非晶硅层的膜厚控制精度为0.1纳米。

5.一种薄膜晶体管,其特征在于,所述薄膜晶体管包括:

一源极,形成于一第一金属层,所述源极具有一斜面且电性耦接至一数据线;

一非晶硅层,形成于所述源极的斜面;

一漏极,形成于所述非晶硅层的上方,其中,所述漏极与所述非晶硅层相接触的表面平行于所述源极的斜面;以及

一栅极,形成于一第一钝化层的上方,其中所述第一钝化层设置于所述源极的上方以及所述漏极的上方,所述栅极位于所述漏极的侧边,

其中,所述非晶硅层与所述第一金属层所在平面的夹角为锐角,且所述栅极与所述非晶硅层的接触面为尖角。

6.根据权利要求5所述的薄膜晶体管,其特征在于,所述第一钝化层还形成于所述栅极与所述漏极之间。

7.根据权利要求5所述的薄膜晶体管,其特征在于,所述薄膜晶体管的沟道长度由所述非晶硅层的厚度决定。

8.一种薄膜晶体管液晶显示器,其特征在于,该薄膜晶体管液晶显示器包括:

采用如权利要求1所述的制造方法所形成的一薄膜晶体管;

一平坦层,形成于所述薄膜晶体管的栅极的上方;

一图案化的第一导电层,形成于所述平坦层的上方;

一第二钝化层,形成于所述第一导电层的上方;以及

一图案化的第二导电层,形成于所述第二钝化层的上方。

9.根据权利要求8所述的薄膜晶体管液晶显示器,其特征在于,所述薄膜晶体管的沟道长度由所述非晶硅层的厚度决定。

10.根据权利要求8所述的薄膜晶体管液晶显示器,其特征在于,所述第一导电层和所述第二导电层均为氧化铟锡材质。

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