[发明专利]引线框架、半导体装置有效
申请号: | 201510882130.7 | 申请日: | 2015-12-03 |
公开(公告)号: | CN105720034B | 公开(公告)日: | 2019-07-05 |
发明(设计)人: | 笠原哲一郎;坂井直也;小林秀基;大串正幸 | 申请(专利权)人: | 新光电气工业株式会社 |
主分类号: | H01L23/495 | 分类号: | H01L23/495 |
代理公司: | 隆天知识产权代理有限公司 72003 | 代理人: | 魏彦;向勇 |
地址: | 日本国*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 引线 框架 半导体 装置 | ||
1.一种半导体装置,包括:
具有端子部的引线框架;
与所述端子部电连接的半导体芯片;以及
以露出所述端子部的一部分的方式密封所述半导体芯片的树脂部,
所述端子部具有在第1引线的顶面叠合第2引线的底面并熔接而成的结构,
在所述端子部的长边方向上,所述第2引线的底面比所述第1引线的顶面更向所述半导体芯片侧延伸,且,在所述端子部的短边方向上,所述第2引线的底面比所述第1引线的顶面更向两侧延伸,
在所述第1引线的底面的所述半导体芯片侧形成有阶差部,
在所述阶差部,形成有与所述第2引线熔接的连接部,
所述第2引线的底面的比所述第1引线的顶面更向外延伸的区域以及上述阶差部被所述树脂部覆盖。
2.根据权利要求1所述的半导体装置,其中,
在所述第2引线的所述半导体芯片侧的相反侧,形成有与所述第1引线熔接的第2连接部。
3.根据权利要求2所述的半导体装置,其中,
在所述第2引线的顶面的所述半导体芯片侧的相反侧,形成有第2阶差部,
在所述第2阶差部形成有所述第2连接部,
所述第2阶差部被所述树脂部覆盖。
4.根据权利要求1至3的任一项所述的半导体装置,其中,
在所述第1引线的底面的所述半导体芯片侧的相反侧,形成有第3阶差部,
在所述第3阶差部,形成有与所述第2引线熔接的第3连接部,
所述第3阶差部被所述树脂部覆盖。
5.一种引线框架,其中,
所述引线框架包括要进行单片化的多个区域,
所述区域分别具有端子部,
所述端子部具有在第1引线的顶面叠合第2引线的底面并熔接而成的结构,
在所述端子部的长边方向上,所述第2引线的底面比所述第1引线的顶面更向所述区域的中心侧延伸,且,在所述端子部的短边方向上,所述第2引线的底面比所述第1引线的顶面更向两侧延伸,
在所述第1引线的底面的所述中心侧形成有阶差部,
在所述阶差部,形成有与所述第2引线熔接的连接部。
6.根据权利要求5所述的引线框架,其中,
在所述第2引线的所述中心侧的相反侧,形成有与所述第1引线熔接的第2连接部。
7.根据权利要求6所述的引线框架,其中,
在所述第2引线的顶面的所述中心侧的相反侧,形成有第2阶差部,
在所述第2阶差部形成有所述第2连接部。
8.根据权利要求5至7的任一项所述的引线框架,
在所述第1引线的底面的所述中心侧的相反侧,形成有第3阶差部,
在所述第3阶差部,形成有与所述第2引线熔接的第3连接部。
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