[发明专利]一种涂布系统及利用该涂布系统制备纳米银线导电薄膜的方法

权利要求书

1.一种光学薄膜的涂布系统，其特征在于，所述涂布系统包括放卷系统，预热整理烘箱，涂液上料系统，烘箱，压合系统，喷涂系统，紫外光固化系统，收卷系统；

薄膜基材由放卷系统放卷，先经预热整理烘箱预热整理，之后经过涂液上料系统，在薄膜的表面涂布上涂液，之后，带有涂液的薄膜经烘箱干燥，经压合系统压实涂层，经喷涂系统对薄膜进行保护层喷涂，带保护层的薄膜在溶剂挥发后进入紫外光固化系统进行光固化反应，保护层固化后薄膜经收卷系统收卷，涂布过程完成；

所述喷涂系统的喷涂头由间隔为10-20cm的喷嘴组成，喷嘴的直径在0.005-0.02mm,采用高压无气喷涂方式，压力范围0.5-5MPa；

所述涂液上料系统由狭缝涂布头、背辊、前真空吸附辊和后真空吸附辊组成；真空吸附辊的真空度能够调节，真空度最低要达到-0.02MPa；真空吸附辊的辊直径为100-300mm，真空吸附辊的辊表面吸附孔直径1-3mm，总开孔面积占辊表面积的比例为5-30％。

2.根据权利要求1所述的涂布系统，其特征在于，所述预热整理烘箱内设置有加热辊组和热风干燥器。

3.根据权利要求2所述的涂布系统，其特征在于，所述预热整理烘箱中，加热辊组包括若干支加热辊，每支加热辊的辊径为100-300mm，加热辊的表面材质为镀铬或镀镍，辊的表面粗糙度小于0.02微米；加热辊的加热介质为水，辊温度范围25-100℃；烘箱内温度范围25-150℃。

4.根据权利要求1所述的涂布系统，其特征在于，所述的压合系统由金属上压辊和抗静电下胶辊组成。

5.根据权利要求1所述的涂布系统，其特征在于，所述的喷涂系统由喷嘴和支撑背辊组成。

6.一种利用权利要求1所述的涂布系统制备纳米银线导电薄膜的方法，其特征在于，所述制备方法包括下述步骤：

(1)配制纳米银线导电涂液，所述纳米银线导电涂液包括纳米银线、水性粘合剂、表面活性剂和溶剂；

(2)配制保护层涂液，所述保护层涂液包括高官能度聚氨酯丙烯酸酯预聚物、低官能度聚氨酯丙烯酸酯预聚物、有机-无机杂化材料、流平剂、光引发剂、活性稀释剂、有机溶剂；

(3)将纳米银线导电涂液由涂液上料系统涂布到经过预热整理的透明基材薄膜上，基膜在进入涂布头之前和离开涂布头之后都经过真空吸附辊；

(4)涂有纳米银线导电涂液的基膜进入烘箱干燥；

(5)纳米银线涂层干燥后进入压合系统，压合系统将纳米银线层压实；

(6)涂层压实的薄膜进入喷涂系统，喷涂系统将保护层涂液喷涂到纳米银线层上面；

(7)带保护层涂液的薄膜进入带氮气保护紫外光固化系统进行固化，得到纳米银线导电膜。

7.根据权利要求6所述的制备方法，其特征在于，所述的预热整理是通过预热整理烘箱内的加热辊组和热风干燥器对基材薄膜进行预热整理，热风温度范围为30-150℃；加热辊的加热介质为水，辊表面温度范围30-95℃，每根辊的温度能够独立调节；加热辊数量2-6根。

8.根据权利要求7所述的制备方法，其特征在于，所述制备方法中：预热整理烘箱内的温度是25-150℃，预热整理烘箱内设置有4根预热辊，从薄膜运行方向开始：第一预热辊的温度为25-35℃，第二预热辊的温度为35-50℃，第三预热辊的温度为50-75℃，第四预热辊的温度为75-100℃；真空吸附辊的真空度为-50kPa；压合系统的压合压力为3-8MPa，压合系统的橡胶辊的硬度为80-95A。