[发明专利]一种多晶硅生产过程中氢气的回收系统有效
申请号: | 201510889560.1 | 申请日: | 2015-12-04 |
公开(公告)号: | CN106829863B | 公开(公告)日: | 2019-03-22 |
发明(设计)人: | 邹飞;陈喜清;张旭;王玉丽;张治锦;郑宝刚;黎远中 | 申请(专利权)人: | 新特能源股份有限公司 |
主分类号: | C01B3/52 | 分类号: | C01B3/52 |
代理公司: | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人: | 罗建民;邓伯英 |
地址: | 830011 新疆维吾尔自治区乌鲁木齐市*** | 国省代码: | 新疆;65 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 氢气 氢气压缩机 淋洗塔 多晶硅生产过程 含尘 含油 第一过滤器 氢气缓冲罐 回收系统 氯硅烷 过滤 氢气制备 电解槽 多晶硅 淋洗液 平稳性 再利用 硅尘 淋洗 塔釜 台数 磨损 回收 维护 | ||
本发明公开了一种多晶硅生产过程中氢气的回收系统,包括:含油氢气缓冲罐;氢气压缩机,与含油氢气缓冲罐连接;氢气淋洗塔,与氢气压缩机连接,氢气淋洗塔还设置有入口用于通入多晶硅生产过程中的含尘氢气,氢气淋洗塔用于使用通入的氯硅烷作为淋洗液进行淋洗;第一过滤器,与氢气淋洗塔的塔釜连接,第一过滤器用于进行过滤,得到过滤后的氯硅烷。上述系统避免了含尘氢气中的硅尘对于氢气压缩机的磨损损坏,解决了长时间运行后的氢气压缩机的维护困难的问题,且该系统可以同时处理含尘氢气和含油氢气,得到的回收氢气的纯度大大提高,减少氢气损耗和电解槽开启台数,提高系统平稳性,进而提高再利用氢气制备得到的多晶硅的纯度。
技术领域
本发明属于多晶硅生产技术领域,具体涉及一种多晶硅生产
过程中氢气的回收系统。
背景技术
多晶硅生产中还原尾气回收工序采用低温冷凝分离、高压低温吸收和高温低压解析循环氯硅烷来分离和净化氢气,实现物料的循环利用,对多晶硅生产的成本的降低起关键性作用。该工艺中,氯硅烷对氯化氢的溶解吸收性极为重要,根据气体在溶液中的溶解吸收特性,低温高压利于溶解吸收,因此要在高压低温条件下进行氯化氢吸收。还原尾气回收工序中,系统为高纯系统,主要作用是将氯硅烷和氯化氢从氢气中分离。整个工序并没有针对污浊氢气进行回收。
现有技术中,向流化床输送硅粉工艺控制中,需要使用高压氢气对硅粉料仓进行充压至高于流化床压力,将硅粉料仓中的硅粉通过压力或者重力压入流化床内。输送完毕后,硅粉料仓内的氢气泄压,无法再进入系统反应,而氢气中含有硅粉为含尘氢气,需全部放空,对环境污染严重。多晶硅生产中需要用氢气压机压缩氢气,提供反应压力和输送氢气,为保证氢气压机稳定运行,用氢气作保护气对氢气压缩机的填料仓进行封压和吹扫,而氢气压缩机中的氢气保护气因含有油污为含油氢气,需要全部放空,氢气压缩机的保护气氢气的排放过程夹带氯硅烷气体,一部分氯硅烷气体直接排放会带来一定的环境污染,另一部分排放至废气处理会增加处理成本。多晶硅生产中硅粉料仓中的含尘氢气和氢气压缩机中的含油氢气大量排放时,为了填补损失氢气,需要开启电解槽生产氢气,电解槽长期满负荷多台数运行时,设备数量需求多,检修维护困难,若电解槽跳停或者损坏,必然导致生产系统氢气不足,造成生产系统波动和降量运行,不利于生产稳定运行,影响多晶硅质量和成本。
发明内容
本发明所要解决的技术问题是针对现有技术中存在的上述不足,提供一种多晶硅生产过程中氢气的回收系统,该系统避免了含尘氢气中的硅尘对于氢气压缩机的磨损损坏,解决了长时间运行后的氢气压缩机的维护困难的问题,且该系统可以同时处理含尘氢气和含油氢气,得到的回收氢气的纯度大大提高。
解决本发明技术问题所采用的技术方案是提供一种多晶硅生产过程中氢气的回收系统,包括:
含油氢气缓冲罐,用于存储多晶硅生产中的含油氢气;所述多晶硅生产中的含油氢气为高沸物裂解气保护气、冷氢化用氢气保护气、还原尾气回收用氢气保护气中的一种或几种。
氢气压缩机,与所述含油氢气缓冲罐连接,所述氢气压缩机用于进行压缩除油;
氢气淋洗塔,与所述氢气压缩机连接,所述氢气淋洗塔还设置有入口用于通入多晶硅生产过程中的含尘氢气,所述氢气淋洗塔用于使用通入的氯硅烷作为淋洗液进行淋洗,在所述氢气淋洗塔的塔顶收集到回收的氢气;多晶硅生产过程中的含尘氢气来自多晶硅生产过程中的高压料仓泄放气中的含有硅粉的氢气。
第一过滤器,与所述氢气淋洗塔的塔釜连接,所述第一过滤器用于进行过滤,得到过滤后的氯硅烷。
优选的是,所述的多晶硅生产过程中氢气的回收系统还包括:
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