[发明专利]一种高纯球形钌粉的制备方法在审
申请号: | 201510893339.3 | 申请日: | 2015-12-08 |
公开(公告)号: | CN105458278A | 公开(公告)日: | 2016-04-06 |
发明(设计)人: | 易伟;沈月;闻明;管伟明;谭志龙;王传军;张俊敏;张秋波;毕珺;赵盘巢;陈家林 | 申请(专利权)人: | 贵研铂业股份有限公司 |
主分类号: | B22F9/20 | 分类号: | B22F9/20 |
代理公司: | 昆明今威专利商标代理有限公司 53115 | 代理人: | 赛晓刚 |
地址: | 650106 云南省昆明市昆明市高*** | 国省代码: | 云南;53 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 高纯 球形 制备 方法 | ||
技术领域
本发明属于粉末冶金技术领域,具体涉及一种高纯球形钌粉的制备方法。
背景技术
高新技术的飞速发展,对钌(Ru)及Ru基合金材料的性能提出推来越高的要求。钌粉的制备是发展钌工业技术的首要环节,满足一些特殊用途的高纯球形钌粉制备技术还存在问题。
纯钌和钌基合金材料在电子产品的制造中作为靶材被广泛应用,而靶材通常要求材料自身杂质含量低、组织成分和晶粒尺寸均匀且致密度高。熔炼法是靶材制作的常用方法,尽管熔炼法能控制靶材的纯度,但组织均匀性较差,且靶材晶粒粗大,同时,由于室温条件下Ru靶的加工性较差,熔炼法制得的靶材后续机加工较难进行。粉末冶金法适于制备组织均匀且晶粒细小的靶材,成为目前制备Ru靶的主要制备方法,常用的烧结方法有热等静压、通电烧结法、真空热压法。提供性能满足要求的Ru粉用以制备Ru靶,成为高性能Ru靶产业的关键技术。
专利文件1发明了一种用化学法制备高纯钌粉的方法,具体是将粗钌粉经蒸馏、吸收、干燥和烘烤制得RuOCl3颗粒,然后在氢气中还原为高纯Ru粉,纯度高于99.995wt%,其中碱金属、碱土金属和过渡金属杂质含量均低于1ppm,放射性元素杂质含量均低于10ppb,非金属杂质总含量低于500ppm。但该专利并未表明所制备钌粉颗粒的形貌及其大小。专利文件2采用电化学法制备高纯钌粉,具体是将粗钌粉(纯度低于99.9wt%)作为阳极,通过电解精炼,在阴极制得高纯钌粉。该Ru粉纯度高于99.99wt%,其中Na和K含量低于10ppm,Fe、Al和Si低于30ppm,O低于100ppm。但该专利也未公布所制备钌粉颗粒的形貌及其大小。专利文件3也是用化学法制备高纯钌粉的方法,具体步骤是将粗钌粉经蒸馏、吸收、干燥和烘烤制得(NH4)2RuCl6颗粒,然后在空气中煅烧,之后在氢气中还原为高纯海绵Ru,最后球磨制得高纯Ru粉。该Ru粉纯度高于99.99wt%,其中铁、碳、钠和钾含量均低于10ppm,氮和氯含量均小于50ppm,总杂质含量(除气体元素)低于100ppm。但该专利所提供的方法制得的钌粉颗粒形貌及大小的控制精度不高。
专利文件1:US006036741A
专利文件2:US20070240992A1
专利文件3:CN103223493A
发明内容
本发明的目的在于提供一种高纯球形钌粉及其制备方法,在尽可能降低杂质含量的同时,尽量提高Ru颗粒的球形度和尺寸均匀性。
本发明的钌粉为球形、粒径为10~20μm,平均粒径为12μm,纯度大于99.995wt%,振实密度为5.1~6.3g/cm3。钌粉中金属元素杂质(含硅)总含量低于50ppm,其中铁含量低于10ppm,铝含量低于10ppm,钠、钾、钙和硅等其他元素含量均低于10ppm;非金属杂质(不含硅)总含量低于100ppm,其中氧含量低于50ppm,碳含量低于30ppm,氮含量低于10ppm,硫含量低于10ppm。
本发明以海绵钌(<99.9%)为原料,采用“蒸馏——化学沉淀——雾化造粒——微波煅烧”工艺制得高纯球形钌粉,具体制备方法包括如下步骤:
(1)蒸馏/化学沉淀工艺:采用蒸馏结合化学沉淀法,控制溶液(饱和NaOH溶液)温度为70~90℃,氯气流量为30~50L/h,蒸馏气体(RuO4)由浓盐酸吸收。然后,向该吸收液(H2RuCl6溶液)中加入氯化铵(优级纯)饱和溶液,过滤沉淀物,至于烘箱中180℃干燥,制得高纯(NH4)2RuCl6粉体;
(2)雾化干燥工艺:采用雾化干燥法,控制液流量为3.0~8.0ml/min,雾化气压为0.1~0.5MPa,进口温度为160~220℃,热空气气流量为4.0~10.0L/min,制得(NH4)2RuCl6球形颗粒,粒径约为20~30μm;
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