[发明专利]加热处理装置和加热处理方法

权利要求书

1.一种对形成于衬底的涂敷膜进行加热处理的加热处理装置，其特征在于，包括：

设置在处理容器内，载置衬底的载置部；

用于对载置于所述载置部的衬底进行加热的加热部；

俯视时沿周向设置在比所述载置部上的衬底靠外侧的位置，用于对所述处理容器内供气的供气口，所述供气口包括在比所述衬底低的位置开口的部位；

俯视时沿周向设置在比所述载置部上的衬底靠外侧的位置，用于对所述处理容器内排气的外周排气口，所述外周排气口包括在比所述衬底高的位置开口的部位；

设置在所述载置部上的衬底的中央部的上方侧，用于对所述处理容器内排气的中央排气口；

圆筒形状的排气室，在该排气室的底面设置所述外周排气口的开口的部位；和

中央排气管，其以贯通所述排气室的方式设置，

所述中央排气口与所述中央排气管的一端侧连接，从所述供气口流到所述外周排气口的气流以包围所述衬底的方式形成气幕。

2.如权利要求1所述的加热处理装置，其特征在于：

包括开闭部件，其对用于将衬底搬入到所述处理容器内或从所述处理容器内搬出的搬入搬出口进行开闭，

所述气幕形成于比所述开闭部件靠衬底侧的位置。

3.如权利要求1或2所述的加热处理装置，其特征在于：

从所述衬底的加热开始时到设定时刻为止，至少从所述外周排气口排气，在所述设定时刻之后至少从所述中央排气口排气，其中，所述设定时刻为经过了设定时间的时刻或者衬底的温度超过了设定温度的时刻。

4.如权利要求3所述的加热处理装置，其特征在于：

至少从所述衬底的加热开始时到所述设定时刻为止，从所述外周排气口和中央排气口同时排气。

5.如权利要求3所述的加热处理装置，其特征在于：

至少在所述设定时刻之后，从所述外周排气口和中央排气口同时排气。

6.如权利要求3所述的加热处理装置，其特征在于：

至少在所述设定时刻之后，所述中央排气口的排气量多于所述外周排气口的排气量。

7.如权利要求3所述的加热处理装置，其特征在于：

所述外周排气口的排气和所述中央排气口的排气的至少一方的排气量随着时间的经过而增加或者减少。

8.如权利要求3所述的加热处理装置，其特征在于：

所述涂敷膜包含交联剂，所述设定时刻为由所述交联剂引发的交联反应结束的时刻。

9.如权利要求1或2所述的加热处理装置，其特征在于，包括：

喷射器，其经由排气路径与所述中央排气口连接，使得通过吸引用的气体的流通来吸引排气流；和

用于对所述喷射器进行吸引用的气体的供给、停止的供给/停止机构。

10.如权利要求9所述的加热处理装置，其特征在于：

包括用于加热所述吸引用的气体的机构。

11.如权利要求9所述的加热处理装置，其特征在于：

所述喷射器的排出侧与由排气设备排气的下游侧排气路径连接，

设置有旁通用的喷射器，其排出侧与所述下游侧排气路径连接，通过吸引用的气体的流通来吸引所述排气流的流路之外的气体，

在所述供给/停止机构停止了所述吸引用的气体的供给时，使吸引用的气体流通到所述旁通用的喷射器。

12.如权利要求11所述的加热处理装置，其特征在于：

在所述中央排气口与吸引排气流的所述喷射器之间的排气路径设置有压损部，使得在为了停止所述排气流的吸引而停止了吸引用的气体的供给时抑制来自所述中央排气口的排气。