[发明专利]一种基于纳米二氧化钛的电路板用蚀刻液在审
| 申请号： | 201510952174.2 | 申请日： | 2015-12-16 |
| 公开（公告）号： | CN105420729A | 公开（公告）日： | 2016-03-23 |
| 发明（设计）人： | 刘进军 | 申请（专利权）人： | 无锡吉进环保科技有限公司 |
| 主分类号： | C23F1/26 | 分类号： | C23F1/26;C09K13/04 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 214000 江苏省无*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 基于 纳米 氧化 电路板 蚀刻 | ||
1.一种基于纳米二氧化钛的电路板用蚀刻液，其特征在于，包括以下重量百分比的组合物：
纳米二氧化钛2.5％～4.5％；
三氯化铁0.5％～1.2％；
硝酸0.5％～1.6％；
有机盐酸2.5％～3.3％；
非离子表面活性剂1.5％～2.3％；
稳定剂0.5％～1.5％；
消泡剂3.5％～5.6％；
其余为蒸馏水。
2.如权利要求1所述的基于纳米二氧化钛的电路板用蚀刻液，其特征在于，包括以下重量百分比的组合物：
纳米二氧化钛2.5％；
三氯化铁0.5％；
硝酸0.5％；
有机盐酸2.5％；
非离子表面活性剂1.5％；
稳定剂0.5％；
消泡剂3.5％；
其余为蒸馏水。
3.如权利要求1所述的基于纳米二氧化钛的电路板用蚀刻液，其特征在于，包括以下重量百分比的组合物：
纳米二氧化钛3.5％；
三氯化铁0.8％；
硝酸1.0％；
有机盐酸2.8％；
非离子表面活性剂1.9％；
稳定剂0.9％；
消泡剂4.6％；
其余为蒸馏水。
4.如权利要求1所述的基于纳米二氧化钛的电路板用蚀刻液，其特征在于，包括以下重量百分比的组合物：
纳米二氧化钛4.5％；
三氯化铁1.2％；
硝酸1.6％；
有机盐酸3.3％；
非离子表面活性剂2.3％；
稳定剂1.5％；
消泡剂5.6％；
其余为蒸馏水。
5.如权利要求1至4任一项所述的基于纳米二氧化钛的电路板用蚀刻液，其特征在于，所述硝酸的浓度大于97.5％(重量百分比)，所述有机盐酸的浓度大于89％(重量百分比)。
6.如权利要求1至4任一项所述的基于纳米二氧化钛的电路板用蚀刻液，其特征在于，所述非离子表面活性剂为司盘类非离子表面活性剂。
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