[发明专利]光学防伪元件及其制备方法

说明书

本发明涉及光学防伪领域，公开了一种光学防伪元件及其制备方法，该方法包括：在基材的同一表面上形成具有第一区域和第二区域的起伏结构层，其中所述第一区域中的起伏结构表面的比体积小于所述第二区域中的起伏结构表面的比体积；在所述起伏结构层上形成镀层；在所述镀层上形成保护层，且所述保护层在所述第一区域中的最小厚度大于所述保护层在所述第二区域中的最小厚度；以及将所述光学防伪元件置于能与所述镀层反应的氛围中，直到所述第二区域中的镀层被完全或者部分腐蚀但所述第一区域中的镀层得以保留为止。本发明工艺简单，生产高效，成本低廉，且能够实现镀层的精准镂空并提高防伪效果。

技术领域

本发明涉及光学防伪领域，具体地，涉及一种光学防伪元件及其制备方法。

背景技术

在各种光学防伪技术中，为了增加图像的亮度，光学防伪元件一般采用金属镀层或高折射率的无机或有机镀层、甚至多层干涉膜颜色光变镀层。对镀层进行镂空从而形成图案化能够大幅提高光学防伪元件的视觉效果和抗伪造能力。

对镀层进行镂空的传统技术一般有两种，即水洗和碱洗。水洗工艺是在需要镂空的位置先涂布水洗油墨，然后蒸镀镀层，再经过润湿、水洗，使得水洗胶层溶于水中，水洗胶层上覆盖的镀层也随之剥离，从而达到镂空的目的。碱洗工艺利用碱液对镀层(一般为铝层)的化学腐蚀作用达到镂空的目的，即先蒸镀反射层，然后在不需要镂空的位置涂布保护层，然后浸入碱液以腐蚀掉未被保护层覆盖的镀层，从而形成镂空图文。针对铝层，也有公司采用酸代替碱与铝反应进行镂空。在这两种去镀层技术中，涂布水洗胶层或保护层均需与膜上的微结构图像进行套印对准。现有设备的套印误差一般都在0.1mm以上，且难以稳定控制，因此得到连续化的、准确定位的镂空图像具有很高的难度，并致使成品率低。

专利申请CN102460236A提出了另外一种去反射镀层解决方案。首先，提供含有平坦的或深宽比小的凹凸结构的第一区域和含有深宽比更大的凹凸结构的第二区域。接着，在该起伏结构层上，以均匀的表面密度形成金属反射层。然后，在金属反射层上蒸镀不同于金属反射层材料的掩膜层，掩膜层一般由无机化合物构成，典型的例如为MgF2。掩膜层的厚度需满足以下条件：在第一区域覆盖有完整连续的掩膜层，而第二区域的掩膜层在凹部或凸部之间有开口。接着，将掩模层暴露于可与金属反射层材料反应的气体或液体中。这样，与第二区域对应的金属反射层和掩膜层均被除去，而与第一区域对应的金属反射层得以完整保留。但是，掩膜层往往致密性不好，因此第一区域的部分金属反射层还是会在最后的去金属反射层工艺中遭到损坏，而且会影响产品的耐流通性。蒸镀掩膜层需要专用的蒸镀设备，因此成本也较高。

因此，非常有必要开发一种工艺简单、生产高效、成本低廉的精准镂空解决方案。

发明内容

本发明的目的是提供一种光学防伪元件及其制备方法，其工艺简单，生产高效，成本低廉，且能够实现镀层的精准镂空并提高防伪效果。

为了实现上述目的，本发明提供一种光学防伪元件的制备方法，该方法包括：在基材的同一表面上形成具有第一区域和第二区域的起伏结构层，其中所述第一区域中的起伏结构表面的比体积小于所述第二区域中的起伏结构表面的比体积；在所述起伏结构层上形成镀层；在所述镀层上形成保护层，且所述保护层在所述第一区域中的最小厚度大于所述保护层在所述第二区域中的最小厚度；以及将所述光学防伪元件置于能与所述镀层反应的氛围中，直到所述第二区域中的镀层被完全或者部分腐蚀但所述第一区域中的镀层得以保留为止。

本发明还提供一种光学防伪元件，该光学防伪元件至少包括：基材；位于所述基材的同一表面上的具有第一区域和第二区域的起伏结构层，其中所述第一区域中的起伏结构表面的比体积小于所述第二区域中的起伏结构表面的比体积；仅位于所述第一区域中的起伏结构层上的镀层；以及位于所述镀层上的保护层。