[发明专利]一种极紫外光学基底的清洁处理方法

权利要求书

1.一种极紫外光学基底的清洁处理方法，其特征在于，该方法包括以下步 骤：

第一步：使用有机溶剂对极紫外光学基底进行手工擦拭；

第二步：将手工擦拭后的极紫外光学基底进行超声波清洗；

第三步：将经过超声波清洗的极紫外光学基底进行慢拉脱水处理；

第四步：酒精烘干第三步处理后的极紫外光学基底。

2.根据权利要求1所述的清洁处理方法，其特征在于，所述使用有机溶剂 对极紫外光学基底进行手工擦拭的具体步骤为：使用蘸有有机溶剂的无尘布在 聚光灯下对极紫外光学基底进行擦拭。

3.根据权利要求2所述的清洁处理方法，其特征在于，所述有机溶剂为酒 精、石油醚和丙酮中的一种或多种。

4.根据权利要求1所述的清洁处理方法，其特征在于，所述将手工擦拭后 的极紫外光学基底进行超声波清洗的具体步骤为：利用清洗工装夹持待清洗极 紫外光学基底，并将其放入超声波水槽中进行清洗。

5.根据权利要求4所述的清洁处理方法，其特征在于，所述清洗工装能够 将圆形极紫外光学基底侧立固定，并不与待清洗面接触。

6.根据权利要求4所述的清洁处理方法，其特征在于，所述超声波水槽是 具有三个不同超声波频率的清洗槽体，三个不同超声波频率依次为40kHz、 68kHz、120kHz。

7.根据权利要求6所述的清洁处理方法，其特征在于，将极紫外光学基底 放入超声波水槽中进行清洗的具体步骤为：将超声波水槽中充入去离子水，并 在40kHz水槽中放入配置的有机溶剂，水温设置为50℃，超声波功率设置为总功 率的25％-30％，清洗时间为3min，将待清洗极紫外光学基底依次放入40kHz、 68kHz、120kHz的三个不同的清洗槽体进行清洗。

8.根据权利要求1所述的清洁处理方法，其特征在于，所述将经过超声波 清洗的极紫外光学基底进行慢拉脱水处理的具体步骤为：将极紫外光学基底浸 没在去离子水中，再缓慢提升，使液面在所述极紫外光学基底表面形成一条水 线，利用表面张力使基底表面脱水，水温设置为60℃。

9.根据权利要求1所述的清洁处理方法，其特征在于，所述酒精烘干第三 步处理后的极紫外光学基底具体步骤：将极紫外光学基底放置在酒精槽上方， 并对酒精进行加热使其沸腾汽化形成大量酒精蒸汽，并通过所述极紫外光学基 底表面，进一步使基底脱水烘干。