[发明专利]一种银纳米团簇的制备方法在审

专利信息
申请号: 201510964206.0 申请日: 2015-12-21
公开(公告)号: CN105499601A 公开(公告)日: 2016-04-20
发明(设计)人: 穆丽璇;师文生 申请(专利权)人: 中国科学院理化技术研究所
主分类号: B22F9/24 分类号: B22F9/24
代理公司: 北京正理专利代理有限公司 11257 代理人: 张文祎;赵晓丹
地址: 100190 *** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 一种 纳米 制备 方法
【说明书】:

技术领域

发明属于纳米团簇的制备领域,特别涉及贵金属纳米团簇的制备技术 领域。

背景技术

少量金属原子组成的贵金属纳米团簇,由于具有独特的荧光性质使其在 化学传感、生物成像和生物原位分析中有重要的潜在应用。因此,近年来, 发展了许多关于贵金属团簇的制备方法,主要包括模板法、单分子层保护法、 刻蚀法等。其中以DNA为模板的银纳米团簇的制备方法简单、发光波长容易 调控、低毒性、生物兼容性好和光稳定等特点使以DNA为模板的银纳米团簇 在生物成像、化学检测等方面有许多出色的工作(J.H.Yu,S.Choi,R.M. Dickson,Angew.Chem.Int.Ed.2009,48,318–320;S.Choi,R.M.Dicksonc,J. H.Yu,Chem.Soc.Rev.,2012,41,1867–1891)。然而,这种方法通常采用 NaBH4还原法,得到的银纳米团簇含有少量的NaBH4或其反应产物,不利于 银纳米团簇在生物原位分析的应用。

发明内容

本发明要解决的技术问题在于提供一种制备银纳米团簇的方法,该方法没 有NaBH4残留或其反应产物。

为解决的上述技术问题,本发明采用下述技术方案:

一种银纳米团簇的制备方法,其包括如下步骤:

1)将AgNO3溶液和DNA溶液按AgNO3和DNA的摩尔比6:1-16:1混合, 加入一定体积的第一缓冲液,快速摇晃30s-2min,静置10-30min;

2)将硅纳米线阵列置于2-8%氢氟酸(HF)溶液中10-40min,用除氧水 清洗,超声得到表面具有硅氢键的硅纳米线溶液;

3)将所述表面具有硅氢键的硅纳米线加入步骤1)中的混合溶液中,快 速摇30s-3min,静置5-10小时,取上层清液,得到银纳米团簇。

步骤1)中所述的AgNO3溶液为1-2mMAgNO3的水溶液。

所述第一缓冲液为能生成银纳米团簇和保持DNA稳定的缓冲液,优选地 为,所述第一缓冲液为pH7.0的缓冲液,更优选地,所述第一缓冲液为pH7.0 的不含氯离子的磷酸盐缓冲液。

优选地,步骤1)中AgNO3和DNA的混合液在冰水中静置。

所述的DNA序列为:a)5’-AATTCCCCCCCCCCCCTTAA-3’;b) 5’-CCCACCCACCCTCCCA-3’;或c)5’-CCCCCCCCCCCC-3’。

所述除氧水为除去氧气的水,优选地为通氮气半个小时除去氧气的水。

优选地,将所述表面具有硅氢键的硅纳米线制备后立即加入1)的混合溶 液中。

步骤1)所述DNA溶液为50-150μM的DNA溶液,优选地,所述DNA 溶液pH值为pH7.4。

所述DNA溶液为不含氯离子的磷酸缓冲液。

优选地,步骤3)中所述静置温度为在4℃静置。

所述硅纳米线阵列制备方法为:取不同尺寸的硅片,依次用丙酮、乙醇、 蒸馏水进行超声清洗,优选地,超声清洗的时间为10~30分钟;将清洗后的 硅片置于含有浓度为3~8mmol/L的AgNO3和2~7mol/L的HF的混合水溶液 中进行浸泡,优选地,浸泡的时间为5~10分钟;将硅片取出后浸入含有浓度 为2~7mol/L的HF和0.05~0.4mol/L的H2O2的混合水溶液中,并在40~60℃ 的水浴中保温,15~45分钟后取出硅片,放入质量浓度为36%浓盐酸与质量 浓度为36%浓硝酸的体积比为3∶1的混合液中,浸泡0.5~2.5小时后取出硅 片;用蒸馏水冲洗后自然晾干,得到由硅纳米线构成的硅纳米线阵列,其中 硅纳米线的直径为200-350nm,长度为10-30μm的硅纳米线。

本发明的有益效果如下:

本发明是利用硅纳米线表面的硅氢键作为还原剂制备银纳米团簇,通过 静置即可除掉硅纳米线,得到的银纳米团簇可直接用于后续的生物应用,不 受常用方法中少量的NaBH4或其反应产物的影响。

附图说明

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