[发明专利]头部磁共振成像设备及其头部梯度线圈组件有效
申请号: | 201510971932.5 | 申请日: | 2015-12-22 |
公开(公告)号: | CN106908746B | 公开(公告)日: | 2020-01-21 |
发明(设计)人: | 多米尼克·迈克尔·格拉西亚尼;托马斯·郭-华氏·夫;李胜均;林剑;简-巴普蒂斯特·马蒂厄马蒂;纳威南·提阿嘎拉简 | 申请(专利权)人: | 通用电气公司 |
主分类号: | A61B5/055 | 分类号: | A61B5/055 |
代理公司: | 31100 上海专利商标事务所有限公司 | 代理人: | 侯颖媖 |
地址: | 美国*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 头部 磁共振 成像 设备 及其 梯度 线圈 组件 | ||
1.一种头部磁共振成像设备,其特征在于,所述头部磁共振成像设备包括:
主磁体,具有中心腔体;及
头部梯度线圈组件,位于所述中心腔体中,且包括头大小的主线圈层、屏蔽线圈层和绝缘支架,所述主线圈层用来产生主梯度场以产生头大小的成像视场,所述屏蔽线圈层用来产生屏蔽梯度场以抵消所述头部梯度线圈组件外的所述主梯度场,所述绝缘支架用来支撑所述主线圈层和所述屏蔽线圈层,所述屏蔽线圈层的尺寸设置为可环绕患者的肩部,在所述绝缘支架的长度方向上所述屏蔽线圈层比所述主线圈层长。
2.如权利要求1所述的头部磁共振成像设备,其特征在于:所述头部梯度线圈组件包括用来产生所述主梯度场的由所述绝缘支架支撑的多个所述主线圈层。
3.如权利要求1所述的头部磁共振成像设备,其特征在于:所述绝缘支架包括外径和内径,所述主线圈层位于所述绝缘支架的内径,所述屏蔽线圈层位于所述绝缘支架的外径。
4.如权利要求1所述的头部磁共振成像设备,其特征在于:所述绝缘支架包括内腔,所述内腔具有可收容患者头部的第一内径和可收容患者肩部的比第一内径大的第二内径。
5.如权利要求1所述的头部磁共振成像设备,其特征在于:所述头部梯度线圈组件进一步包括由所述绝缘支架支撑的中介层。
6.如权利要求1所述的头部磁共振成像设备,其特征在于:所述绝缘支架含有声音阻尼材料和振动阻尼材料中的至少一种。
7.一种头部梯度线圈组件,其特征在于,所述头部梯度线圈组件包括:
头大小的主线圈层,用来产生主梯度场以产生头大小的成像视场;
屏蔽线圈层,用来产生屏蔽梯度场以抵消所述头部梯度线圈组件外的所述主梯度场,所述屏蔽线圈层的尺寸设置为可环绕患者的肩部;及
绝缘支架,用来支撑所述主线圈层和所述屏蔽线圈层,
在所述绝缘支架的长度方向上所述屏蔽线圈层比所述主线圈层长。
8.如权利要求7所述的头部梯度线圈组件,其特征在于:所述头部梯度线圈组件包括用来产生所述主梯度场的由所述绝缘支架支撑的多个所述主线圈层。
9.如权利要求7所述的头部梯度线圈组件,其特征在于:所述绝缘支架包括外径和内径,所述主线圈层位于所述绝缘支架的内径,所述屏蔽线圈层位于所述绝缘支架的外径。
10.如权利要求7所述的头部梯度线圈组件,其特征在于:所述绝缘支架包括内腔,所述内腔具有可收容患者头部的第一内径和可收容患者肩部的比第一内径大的第二内径。
11.如权利要求7所述的头部梯度线圈组件,其特征在于:所述头部梯度线圈组件进一步包括由所述绝缘支架支撑的中介层。
12.如权利要求7所述的头部梯度线圈组件,其特征在于:所述绝缘支架含有声音阻尼材料和振动阻尼材料中的至少一种。
13.一种头部梯度线圈组件,其特征在于,所述头部梯度线圈组件包括:
绝缘支架,包括外径和内径;
主线圈层,位于所述绝缘支架的内径,用来产生主梯度场,所述主线圈层的尺寸设置为可环绕患者的头部且使得患者的肩部在主线圈层的外面;及
屏蔽线圈层,位于所述绝缘支架的外径,用来产生屏蔽梯度场以抵消所述头部梯度线圈组件外的所述主梯度场,所述屏蔽线圈层的尺寸设置为可环绕患者的肩部。
14.如权利要求13所述的头部梯度线圈组件,其特征在于:所述头部梯度线圈组件包括用来产生所述主梯度场的由所述绝缘支架支撑的多个所述主线圈层。
15.如权利要求13所述的头部梯度线圈组件,其特征在于:在所述绝缘支架的长度方向上所述屏蔽线圈层比所述主线圈层长。
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