[发明专利]头部磁共振成像设备及其头部梯度线圈组件

说明书

本发明揭示一种头部磁共振成像设备。头部磁共振成像设备包括：主磁体，具有中心腔体；及头部梯度线圈组件，位于所述中心腔体中，且包括头大小的主线圈层、屏蔽线圈层和绝缘支架，所述主线圈层用来产生主梯度场以产生头大小的成像视场，所述屏蔽线圈层用来产生屏蔽梯度场以抵消所述头部梯度线圈组件外的所述主梯度场，所述绝缘支架用来支撑所述主线圈层和所述屏蔽线圈层，所述屏蔽线圈层的尺寸设置为可环绕患者的肩部。本发明还揭示头部磁共振成像设备的头部梯度线圈组件，对患者头部进行扫描和检查。

技术领域

本发明有关一种磁共振成像设备，尤其涉及一种头部磁共振成像设备。

背景技术

头部梯度线圈组件广泛地用来成像患者的头部。现有的头部梯度线圈组件在扫描患者头部的时候插入全身磁共振成像设备。头部梯度线圈组件主要包括主梯度线圈、屏蔽梯度线圈和支撑主梯度线圈和屏蔽梯度线圈的支架。主梯度线圈用来产生主梯度场以产生头部的成像视场。屏蔽梯度线圈用来产生屏蔽梯度场来抵消头部梯度线圈组件外的主梯度场。

支架的尺寸较小，从而可以被容纳在全身磁共振成像设备内，且主梯度线圈和屏蔽梯度线圈缠绕在支架上的距离较近。如此在头部梯度线圈组件外的主梯度场较强，因此屏蔽梯度线圈需要缠绕支架更多圈来产生较强的屏蔽梯度场，从而完全抵消头部梯度线圈组件外的主梯度场。屏蔽梯度线圈产生的屏蔽梯度场扩散至成像视场，抵消成像视场内的主梯度场，因此最大梯度强度减弱。为了弥补抵消的主梯度场，主梯度线圈需要增加更多的匝数，如此导致整体电感增大，而且进一步需要增加屏蔽梯度线圈的匝数来抵消主梯度线圈产生的主梯度场。如此又减弱了成像视场内的主梯度场的最大梯度强度。

因此，有必要提供一种解决方案来解决至少一个上面提及的问题。

发明内容

本发明的一个方面在于提供一种头部磁共振成像设备。头部磁共振成像设备包括：主磁体，具有中心腔体；及头部梯度线圈组件，位于所述中心腔体中，且包括头大小的主线圈层、屏蔽线圈层和绝缘支架，所述主线圈层用来产生主梯度场以产生头大小的成像视场，所述屏蔽线圈层用来产生屏蔽梯度场以抵消所述头部梯度线圈组件外的所述主梯度场，所述绝缘支架用来支撑所述主线圈层和所述屏蔽线圈层，所述屏蔽线圈层的尺寸设置为可环绕患者的肩部。

本发明的另一个方面在于提供一种头部梯度线圈组件。头部梯度线圈组件包括：头大小的主线圈层，用来产生主梯度场以产生头大小的成像视场；屏蔽线圈层，用来产生屏蔽梯度场以抵消所述头部梯度线圈组件外的所述主梯度场，所述屏蔽线圈层的尺寸设置为可环绕患者的肩部；及绝缘支架，用来支撑所述主线圈层和所述屏蔽线圈层。

本发明的再一个方面在于提供一种头部梯度线圈组件。头部梯度线圈组件包括：绝缘支架，包括外径和内径；主线圈层，位于所述绝缘支架的内径，用来产生主梯度场，所述主线圈层的尺寸设置为可环绕患者的头部且使得患者的肩部在主线圈层的外面；及屏蔽线圈层，位于所述绝缘支架的外径，用来产生屏蔽梯度场以抵消所述头部梯度线圈组件外的所述主梯度场，所述屏蔽线圈层的尺寸设置为可环绕患者的肩部。

附图说明

通过结合附图对于本发明的实施方式进行描述，可以更好地理解本发明，在附图中：

图1所示为本发明头部磁共振成像设备的一个实施例的剖面示意图；

图2所示为头部磁共振成像设备的主线圈层和屏蔽线圈层产生梯度场的一个实施例的示意图；

图3所示为本发明头部磁共振成像设备的另一个实施例的剖面示意图；

图4所示为本发明头部磁共振成像设备的另一个实施例的剖面示意图；

图5所示为本发明头部磁共振成像设备的另一个实施例的剖面示意图；

图6所示为本发明头部磁共振成像设备的另一个实施例的剖面示意图；