[发明专利]一种基于稀疏和低秩表示图的高光谱数据降维方法有效

专利信息
申请号: 201510977094.2 申请日: 2015-12-23
公开(公告)号: CN105574548B 公开(公告)日: 2019-04-26
发明(设计)人: 李伟;刘佳彬 申请(专利权)人: 北京化工大学
主分类号: G06K9/62 分类号: G06K9/62;G06T3/00
代理公司: 北京思海天达知识产权代理有限公司 11203 代理人: 沈波
地址: 100029 *** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 基于 稀疏 表示 光谱 数据 方法
【权利要求书】:

1.一种基于稀疏和低秩表示图的高光谱数据降维方法,其特征在于:本方法的具体步骤如下,

步骤1、将高光谱数据输入计算机,并对数据进行归一化处理;

步骤2、从归一化的高光谱图像中每个类别选取一定数量的样本点用于做训练样本;高光谱数据的原始维数为N,每类训练样本的数目根据原始图像的规模和具体应用而定;

步骤3、对所选的训练样本进行稀疏和低秩表示图的构造;

对于一个高光谱的数据,训练样本集为N表示原始数据的维数,M表示所有训练样本点的数目;用C表示高光谱图像总类别的数目,ml表示属于l类的所有样本点的数目,故有

在基于稀疏表示图的判别分析中,对于任意一个像素Xi∈X,其稀疏表示的系数向量通过求解L1范数最优化求取,即

s.t.XWi=Xi且wii=0

上式中,Wi=[wi1,wi2,…,wiM]是一个M×1的向量,是其余属于X样本点对像素点Xi的表示系数组成的向量;||·||1表示矩阵的L1范数,是矩阵各个元素的绝对值相加之和,用来求取稀疏解;进一步地,对于所有的像素点,写成矩阵的形式,有

s.t.XW=X且diag(W)=0

上式中,W=[w1,w2,…,wM]是一个M×M的矩阵,该矩阵的每个列向量Wi是其余样本点对第i个点的稀疏表示系数;矩阵W表示的是在矩阵稀疏约束的条件下,除自身点以外其他样本点对该点的线性表示,反映了样本点之间的数据结构;

然而稀疏表示的不足在于只能找出稀疏样本点,缺乏全局约束,因此在低维流形空间中丧失原有数据的全局特性;针对于步骤2 中选取的训练样本,稀疏和低秩表示图的构造方法如下:

s.t.XW=X且diag(W)=0

上式中||·||1表示矩阵的L1范数,是矩阵各个元素的绝对值相加之和,用于求取稀疏表示解;||·||*是矩阵的核范数,是矩阵奇异值之和,用于刻画图的低秩约束特性;W是一个M×M的矩阵,该矩阵的每个列向量Wi是一个M×1的向量,是其余样本点对第i个点的稀疏和低秩表示的系数;上式等价于:

s.t.diag(W)=0

表示矩阵的F范数,β和λ都是正则化系数,β和λ的大小控制(4)式子中三者的平衡关系;对于本方法提出的基于稀疏表示图的判别分析,用于有监督的降维算法,增加数据类别标签信息,针对于相同类别训练样本的稀疏和低秩表示,有:

s.t.diag(W(l))=0

上式中表示第l类的数据;diag(W(l))=0是为了防止数据的自表示;W(l)表示的是同个类别的样本点之间的表示关系,既有通过L1范数找出的少数重要的表示样本点,也有通过核范数约束,带有全局约束的样本间表示的低秩特性;上述式子是一个凸优化问题,通过LADMAP方法求取最优解;

假设已经对训练样本进行排序,即相同类别的训练样本放在一块,对于有监督的学习,把样本点类别信息加以考虑,对于不同类别的样本点,表示系数设为0;最终,对于整个训练样本集的稀疏和低秩表示图,有

上式中,是一个ml×ml的矩阵,是第l类训练样本的稀疏和低秩表示图;矩阵W表示的是在矩阵稀疏约束和低秩约束的条件下,除自身点以外其他样本点对该点的线性表示,既有通过L1范数找出的少数重要的表示样本点,也有通过核范数约束,带有全局约束的样本间表示的低秩特性;反映了样本点之间的流形结构;

步骤4、通过最优化准则,寻求最优的投影矩阵,使在投影后的低维流形空间里保持步骤3中所构造的图W的特性;

基于图嵌入子空间学习的目标是寻求一个N×K的投影矩阵P,K<N,通过投影变换,在低维空间有Y=PTX,为了保持原有空间的流形特性,最优化目标式刻画为:

s.t.PTXLpXTP=I

上式中,Ls是图W的拉普拉斯矩阵,Ls=D-W,矩阵D是一个对角矩阵,其对角线元素为W矩阵所对应列的所有元素相加之和,即Dii=∑jWij;Lp=I,这里PTXLpXTP=I是拉格朗日约束;上述问题的求解是一个广义特征值-特征向量分解问题,即

XLsXTP=ΛXLpXTP (7)

其中Λ是广义特征值组成的对角矩阵,每个元素对应一个特征值;P是与之对应的特征向量;

步骤5、投影降维;将步骤4)得到的最优投影矩阵P与剩余高光谱数据集的矩阵相乘,得到为在低维空间原始数据的存在形式。

2.根据权利要求1所述的一种基于稀疏和低秩表示图的高光谱数据降维方法,其特征在于:本方法具体包括以下步骤,

步骤1)将高光谱数据输入计算机,并对数据进行归一化处理;

读取整个高光谱图像,并采用归一化公式对整个数据集进行归一化处理;min为每个波段中的最小值,max为每个波段中的最大值;

步骤2)选取部分数据作为训练样本;

针对已经归一化的高光谱数据,每个类别随机选取一定数量的数据当做训练样本;

步骤3)稀疏和低秩表示图的构建;

对训练样本进行排序,使相同类别的训练样本排在一块;根据式(5)求取每类训练样本的稀疏低秩表示图W(l),并按照对角矩阵块的形式组成W,生成所有训练样本的图;如下:

步骤4)求解最优投影矩阵;

采用广义特征值分解方法求取最优映射矩阵;根据步骤3)得到的W,求取矩阵D,D是一个对角矩阵,其对角线元素为W矩阵所对应行的所有元素相加之和,即Dii=∑jWij,Ls=D-W,Lp=I;根据式子(7)进行广义特征值分解,得到前K个最小特征值所对应的特征向量,组成最优映射矩阵P;

步骤5)投影降维;

将步骤4)得到的最优投影矩阵P与剩余高光谱数据集的矩阵相乘,得到为在低维空间原始数据的存在形式。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京化工大学,未经北京化工大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201510977094.2/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top