[发明专利]一种PtBi2单晶及其制备方法和应用有效

专利信息
申请号: 201510988764.0 申请日: 2015-12-24
公开(公告)号: CN105568377B 公开(公告)日: 2017-12-22
发明(设计)人: 许祝安;杨小军;曹光旱 申请(专利权)人: 浙江大学
主分类号: C30B29/10 分类号: C30B29/10;C30B9/10;H01L43/08;H01L43/10
代理公司: 杭州天勤知识产权代理有限公司33224 代理人: 胡红娟
地址: 310027 浙*** 国省代码: 浙江;33
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 ptbi sub 及其 制备 方法 应用
【说明书】:

技术领域

发明涉及PtBi2材料及其制备领域,具体涉及一种PtBi2单晶及其制备方法和应用。

背景技术

巨磁电阻(也常简称巨磁阻)材料是指在外磁场的作用下电阻发生显著变化的一类功能性材料,当该类材料的电阻随外磁场的变化十分巨大时,也被称为超磁电阻材料。由于它们在电磁器件如磁头、磁传感器、磁开关、磁记录以及磁电子学等方面具有巨大的应用前景,因此引起了人们极大的兴趣,对它的研究近年来已成为物理学和材料化学的一个前沿领域。

巨磁电阻材料不仅可以被利用来扩大磁储存装置读写头的敏感度,如:磁储存,硬盘;还可以开发出新的自旋电子学器件。常规磁阻通常在非磁性化合物和化学元素中发现,它是一个非常微弱的效应,通常只有百分之几的变化量级。通常,导体在磁场作用下,其磁阻与磁场呈平方关系,而且在相对低的磁场下就会饱和,一般磁阻都比较小。在磁信号探测器方面的应用特别需要在室温附近的线性巨磁电阻效应。

目前主要的用来解释线性磁电阻的两个模型为量子模型(A.A.Abrikosov, Sov.Phys.JETP 29,746(1969);A.A.Abrikosov,Phys.Rev.B 58,2788(1998);A. A.Abrikosov,EPL 49,789(2000).)和经典模型(M.M.Parish and P.B.Littlewood, Nature 426,162(2003).)。量子模型认为量子线性磁阻在量子极限下出现,此时所有电子都填充在最低的朗道能级。经典的线性磁阻是由无序导致,可能出现在高无序系统,甚至低无序高迁移率的系统,以及薄膜和量子Hall系统中。量子模型常应用于具有零能隙以及线性色散的材料系统中,如拓扑绝缘体、石墨烯、狄拉克半金属SrMnBi2以及铁基超导母体。经典线性磁阻模型常应用于非均匀的InSb、拓扑绝缘体、石墨烯、以及狄拉克半金属Cd3As2中。非常有趣的是经典线性磁阻效应也经常出现在具有线性色散关系的材料中,这或许是由于它们的高迁移率。在高迁移率的样品中即使小的无序也可以导致线性磁阻。当载流子浓度太大以至于不可能达到量子极限时,在无需系统中线性磁阻可能能够被经典模型描述。

对于PtBi2材料大约上世纪50-60年代,国外已有报道成功合成PtBi2材料 (T.Biswas,and K.Schubert,Journal of the Less Common Metals 19,223 (1969).),但是至今未有制备出PtBi2单晶的报道,尚未有对PtBi2单晶中存在巨磁阻效应以及作为巨磁阻材料应用的研究。

发明内容

本发明所要解决的技术问题,提供一种新型的PtBi2单晶及其制备方法和应用。

本发明通过以下技术方案实现:一种PtBi2单晶,该晶体为六方晶系,其空间群为P-3(No.147),晶胞参数为:α=β=90°,γ= 120°,晶胞体积为:2.3×10-28m3。本发明第一次制备出PtBi2单晶。

本发明还提供一种制备PtBi2单晶的方法,包括如下步骤:

1)将Pt和Bi以摩尔比1:7.5~8.5在氩气气氛中进行研磨,得到混合粉末;

2)将上述混合粉末置于真空容器中,在温度1223~1323K下煅烧500~700 min;

3)然后降温至823~923K,离心得到PtBi2单晶。

本发明通过Pt和Bi在高温熔融状态发生固相反应,合成新的PtBi2单晶。高温煅烧使Pt和Bi充分反应生成PtBi2,并充分熔解在以Bi做自助熔剂的液体中。通过缓慢降温,使晶粒缓慢析出,并生长成大的单晶。再通过离心将单晶与助熔剂分离,最终得到PtBi2单晶。

作为改进,所述的Pt和Bi均为单质粉末,单质粉末的粒径小于10μm。粉末状的Pt和Bi便于研磨,使得混合更加均匀。

作为改进,所述的研磨时间为20~40min。使得Pt和Bi颗粒尽可能细,混合更加均匀,加速了固相反应的进行。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于浙江大学,未经浙江大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201510988764.0/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top