[发明专利]光学器件和提供防困光学器件的方法有效
申请号: | 201511000922.3 | 申请日: | 2015-12-28 |
公开(公告)号: | CN105759333B | 公开(公告)日: | 2019-06-11 |
发明(设计)人: | N·迈特尔;D·帕萨尔德;M·特希耶尔斯 | 申请(专利权)人: | 依视路国际公司 |
主分类号: | G02B5/28 | 分类号: | G02B5/28;G02C7/10;G02B1/10 |
代理公司: | 北京市中咨律师事务所 11247 | 代理人: | 姜利芳;杨晓光 |
地址: | 法国沙*** | 国省代码: | 法国;FR |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 眼科 镜片 器件 方法 | ||
1.一种光学器件,该光学器件包括眼镜片,该眼镜片包括:
-基底,该基底具有背面和正面,该背面指定为面向使用者的眼睛,以及
-在至少一个面上的至少一个外部干涉涂层,该至少一个外部干涉涂层是这样使得它使能够选择性地反射到达该背面的光,其中对于在450nm与490nm之间范围内波长的局部最大反射值为至少10%,
该光学器件进一步包括:
-在佩戴者的眼睛前方用于支撑该眼镜片的框架,以及
-附接到该框架上的光源,该光源被定位并定向为朝向该至少一个外部干涉涂层发射光,这样使得该光不直接照射眼睛并且使得由该光源发射的光至少部分地被该至少一个外部干涉涂层朝向眼睛反射。
2.根据权利要求1所述的光学器件,其中对于在400nm与420nm之间的范围内的光的平均反射率是小于10%和/或对于在500nm与600nm之间的范围内的光的平均反射率是小于10%。
3.根据权利要求1所述的光学器件,其中对于在420nm与440nm之间的范围内的光的平均反射率是小于10%。
4.根据以上权利要求中任一项所述的光学器件,其中该至少一个外部干涉涂层的反射光谱包括集中在450nm与490nm之间的峰,该峰具有小于或等于100nm的半幅值全宽。
5.根据权利要求1至3中任一项所述的光学器件,其中该在450nm与490nm之间的范围内的局部最大反射具有的反射值比具有430nm波长的光和/或具有500nm波长的光的反射值大至少两倍。
6.根据权利要求5述的光学器件,其中该在450nm与490nm之间的范围内的局部最大反射具有的反射值比具有430nm波长的光和/或具有500nm波长的光的反射值大四倍。
7.根据权利要求1至3中任一项所述的光学器件,其中该至少一个外部干涉涂层包括具有高折射率的层以及具有低折射率的层,所述具有高折射率的层和所述具有低折射率的层各自具有在1nm到500nm范围内的厚度,并且该至少一个外部干涉涂层的这些具有低折射率的层中的每一个包括一种选自下组的氧化物,该组在于氧化硅,氟化镁,ZrF4AlF3,锥冰晶石,冰晶石,以及它们的组合,结合有更高指数的材料,这些材料包括氧化铝、氟、二氧化硅、或掺杂有氧化铝的二氧化硅,并且该至少一个外部干涉涂层的这些具有高折射率的层的每一个包括选自下组的一种或多种金属氧化物,该组包括氧化锆,二氧化钛,氧化铝,五氧化二钽,五氧化二钕,氧化镨,氧化钛酸镨,氧化镧,氧化铌,氧化钇。
8.根据权利要求1至3中任一项所述的光学器件,其中该至少一个外部干涉涂层不存在于该至少一个外部干涉涂层位于其上的基底的面的整个表面上。
9.根据权利要求8所述的光学器件,该至少一个外部干涉涂层不存在于该眼镜片的工作光学区的一部分上。
10.根据权利要求1至3中任一项所述的光学器件,该至少一个外部干涉涂层存在于该眼镜片的背面上。
11.根据权利要求1至3中任一项所述的光学器件,其中该光源被定位并且定向为具有照射区域,该照射区域代表在该眼镜片表面的工作光学区之外,在该光源发射的光与该基底的背面上的至少一个外部干涉涂层的表面相交时接收该光强度的60%的区域。
12.根据权利要求1至3中任一项所述的光学器件,其中该光源被定位并且定向为具有照射区域,该照射区域代表在该眼镜片表面的工作光学区之外,在该光源发射的光与该基底的背面上的至少一个外部干涉涂层的表面相交时接收该光强度的80%的区域。
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