[发明专利]曝光设备及器件制造方法

权利要求书

1.一种测量装置，所述测量装置的特征在于，具有：

移动体，所述移动体具有设置于一侧的保持部以及设置于另一侧的测量面，所述移动体在所述保持部保持物体且能够移动；

第一支撑构件，所述第一支撑构件相对于所述移动体配置于所述一侧，并对相对于所述物体照射光束的光学系统进行支撑；

第一测量系统，所述第一测量系统相对于所述移动体配置于所述另一侧，并包括接收相对于所述测量面照射第二测量光束而产生的来自所述测量面的光的受光构件，根据该受光构件所接收的光获得所述移动体的位置信息；

第二支撑构件，所述第二支撑构件对所述受光构件进行支撑，并能够与所述第一支撑构件进行相对移动；以及

第二测量系统，所述第二测量系统获得关于所述第二支撑构件与所述第一支撑构件的相对位置的信息。

2.根据权利要求1所述的测量装置，其特征在于，

进一步具有使用关于所述相对位置的信息，管理所述光学系统与所述移动体的位置关系的控制系统。

3.根据权利要求2所述的测量装置，其特征在于，

所述管理包括将所述光学系统与所述移动体的相对位置形成规定的位置关系。

4.根据权利要求3所述的测量装置，其特征在于，

进一步具有使所述第一支撑构件与所述第二支撑构件的相对位置变化的第一驱动系统，

所述控制系统使用关于所述相对位置的信息控制所述第一驱动系统。

5.根据权利要求2所述的测量装置，其特征在于，

所述管理包括使用所述第二测量系统获得的关于所述相对位置的信息修正所述第一测量系统获得的所述位置信息。

6.根据权利要求5所述的测量装置，其特征在于，

所述控制系统使用进行所述修正的移动体的位置信息与关于所述相对位置的信息生成控制所述移动体的移动的控制信号。

7.根据权利要求6所述的测量装置，其特征在于，

进一步包括使所述第一支撑构件与所述第二支撑构件的相对位置变化的第二驱动系统，

所述控制系统使用所述控制信号以将所述第一支撑构件与所述第二支撑构件维持为规定的关系的方式控制所述第二驱动系统。

8.根据权利要求1所述的测量装置，其特征在于，

所述移动体以所述测量面沿着规定的二维平面的方式移动，

所述第一测量系统获得所述二维平面内的所述移动体的位置信息。

9.根据权利要求1所述的测量装置，其特征在于，

从测量构件被照射的所述测量光束的所述测量面内的照射位置与从所述光学系统被照射的光束光的照射位置处于规定的位置关系。

10.根据权利要求9所述的测量装置，其特征在于，

所述移动体以所述测量面沿着规定的二维平面的方式移动，

在所述二维平面内，所述测量光束照射至所述测量面的照射位置与从所述光学系统被照射的光束光的照射位置一致。

11.根据权利要求1所述的测量装置，其特征在于，

所述第二测量系统从所述第一支撑构件与所述第二支撑构件的一方向另一方照射第二测量光束，接收该第二测量光束的返回光获得关于所述相对位置的信息。

12.根据权利要求1所述的测量装置，其特征在于，

所述第二支撑构件在规定的轴向其两端部与所述第一支撑构件分别对置，

所述第二测量系统具有设置于所述第一支撑构件与所述第二支撑构件的两端部的一方的一对第二测量构件，使用该一对第二测量构件的输出，获得所述第二支撑构件相对于所述第一支撑构件的位置信息。