[发明专利]曝光设备及器件制造方法

说明书

通过放置于平台(14A、14B)下方的测量杆(71)具有的多个编码器头、Z头等，利用放置在微动载台(WFS1,WFS2)下表面的光栅，在投影光学系统(PL)的正下方及主要对准系统(AL1)的正下方，分别测量曝光中及对准中的晶圆载台(WST1,WST2)的各个位置信息。由于将支撑投影光学系统(PL)的主框架(BD)和测量杆(71)分离，因此与主框架和测量杆一体时不同，不致发生因内部应力(也包括热应力)造成测量杆的变形，及振动从主框架传达至测量杆等。因此可精确测量晶圆载台的位置信息。

本发明申请是国际申请日为2010年6月21日、国际申请号为“PCT/JP2010/060921”、国家申请号为“201080027008.7”、发明名称为“曝光设备及器件制造方法”的发明专利申请的分案申请。

技术领域

本发明涉及一种曝光设备及器件制造方法，更详细而言，涉及经由光学系统而利用能量光束曝光物体的曝光设备，及使用该曝光设备的器件制造方法。

背景技术

传统上，在制造如半导体器件(集成电路等)、液晶示出元件等的电子器件(微型器件)的光刻处理中，主要使用如步进反复方法的投影曝光设备(所谓的步进机)、或者步进扫描方法的投影曝光设备(所谓的扫描步进机(也称为扫描仪))等的曝光设备。这种投影曝光设备具有载台装置，载台装置保持晶圆或玻璃板等基板(以下统称为晶圆)并沿着指定的二维平面驱动该晶圆。

载台装置为了进行精确曝光，而要求精确控制载台的位置，此外，为了提高曝光操作的吞吐量，而要求载台的高速度和高加速度。应此要求，近年来开发出以下载台装置，该载台装置使用电磁力驱动方法的平面马达控制晶圆在二维平面内的位置(例如参照专利文献1)。

此外，例如在专利文献2的第五实施例中披露有：在平台上表面形成的凹部内配置编码器头(encoder head)的曝光设备。在专利文献2中描述的曝光设备中，通过使测量光束从下表面直接入射在放置于晶圆载台上的二维光栅上，而精确测量晶圆载台的位置信息。

但是，如果将专利文献1中披露的晶圆载台具有动子并且平台具有定子的平面马达应用于专利文献2的第五实施例中披露的在平台内放置编码器头的曝光设备，则在驱动晶圆载台时，可能因作用于平台的反作用力造成编码器系统的测量精度降低。

引用列表

专利文献

【专利文献1】美国专利第6,437,463号

【专利文献2】美国专利申请公开第2008/0094594号

发明内容

根据本发明的第一方面，提供了第一曝光设备，所述第一曝光设备经由第一支撑构件支撑的光学系统而利用能量光束对物体曝光，所述第一曝光设备设备包括：移动体，所述移动体保持所述物体，并能够沿着指定的二维平面移动；引导面形成构件，所述引导面形成构件形成所述移动体沿着所述二维平面移动时使用的引导面；第一驱动系统，所述第一驱动系统驱动所述移动体；第二支撑构件，所述第二支撑构件在与所述光学系统相反的侧上与所述引导面形成构件分开地放置，穿过所述引导面形成构件，以与所述第一支撑构件分离；第一测量系统，所述第一测量系统包括第一测量构件，所述第一测量构件用测量光束照射与所述二维平面平行的测量面并接收来自所述测量面的光，并且所述第一测量系统利用所述第一测量构件的输出来获得所述移动体至少在所述二维平面内的位置信息，所述测量面被布置在所述移动体和所述第二支撑构件中的一个处，以及所述第一测量构件的至少一部分被布置在所述移动体和所述第二支撑构件中的另一个处；以及第二测量系统，所述第二测量系统获得所述第二支撑构件的位置信息。