[发明专利]一种多功能仪表盘或照相机视窗及其制备方法在审
申请号: | 201511028319.6 | 申请日: | 2015-12-31 |
公开(公告)号: | CN105441873A | 公开(公告)日: | 2016-03-30 |
发明(设计)人: | 吴晓彤;方俊勇 | 申请(专利权)人: | 奥特路(漳州)光学科技有限公司 |
主分类号: | C23C14/06 | 分类号: | C23C14/06;C23C14/08;C23C14/10;C23C14/30;C23C14/26;C23C16/06;C23C16/448;G02B1/14;G02B1/10;G02B1/18;C23C28/00 |
代理公司: | 福州君诚知识产权代理有限公司 35211 | 代理人: | 戴雨君 |
地址: | 360000 福建省漳*** | 国省代码: | 福建;35 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 多功能 仪表盘 照相机 视窗 及其 制备 方法 | ||
1.一种多功能仪表盘或照相机视窗,包括基片,其特征在于:所述基片的外表面从里到外依序设有第一膜层、第二膜层、第三膜层、第四膜层、第五膜层、第六膜层、第七膜层和第八膜层;所述第一膜层和第三膜层均为五氧化三钛层,厚度均为10-100nm;所述第二膜层和第四膜层均为二氧化硅层,厚度均为50-100nm;所述第五膜层为纳米银层,第五膜层的厚度为5-20nm;所述第六膜层为ITO层,厚度为10-100nm;所述第七膜层为高硬度层,厚度为10-50nm;所述第八膜层为氟化物层,厚度为3-10nm。
2.根据权利要求1所述的一种多功能仪表盘或照相机视窗,其特征在于:所述的五氧化三钛层的膜材为五氧化三钛,并由电子枪蒸镀成型,二氧化硅层的膜材为二氧化硅,并由电子枪蒸镀成型。
3.根据权利要求1所述的一种多功能仪表盘或照相机视窗,其特征在于:所述纳米银层的膜材为银的氧化物,并使用电子枪蒸镀成型,所述银的氧化物为Ag2O、AgO或Ag2O3,所述ITO层的膜材为ITO,并由电子枪蒸镀成型。
4.根据权利要求1所述的一种多功能仪表盘或照相机视窗,其特征在于:所述高硬度层的膜材为三氧化二铝、氧化锆、二氧化硅晶体或一氧化硅晶体,并由电子枪蒸镀成型。
5.根据权利要求1所述的一种多功能仪表盘或照相机视窗,其特征在于:所述氟化物层的膜材为氟化镁,并由电阻加热蒸镀成型。
6.根据权利要求1所述的一种多功能仪表盘或照相机视窗,其特征在于:所述基片由树脂或玻璃成型。
7.根据权利要求6所述多功能仪表盘或照相机视窗的制备方法,其特征在于:所述基片由树脂成型时,所述制备方法具体包括以下步骤:
1)对基片进行清洗、干燥;
2)对基片的外表面进行镀膜;
A、镀第一膜层:
将真空镀膜舱内的压力值调整至小于或等于5.0×10-3帕,并控制真空镀膜舱内的温度为50-70℃,采用电子枪轰击第一膜层的膜材,第一膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于基片的外表面,同时控制第一膜层蒸镀的速率为2.5?/S,第一膜层最终形成后的厚度为10-100nm;其中,所述第一膜层的膜材为五氧化三钛,形成五氧化三钛层;
B、镀第二膜层:
保持真空镀膜舱内的压力值小于或等于5.0×10-3帕,同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃,采用电子枪轰击第二膜层的膜材,第二膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤A中第一膜层的表面,同时控制第二膜层蒸镀的速率为7?/S,第二膜层最终形成后的厚度为50-100nm;其中,所述第二膜层的膜材为二氧化硅,形成二氧化硅层;
C、镀第三膜层:
保持真空镀膜舱内的压力值小于或等于5.0×10-3帕,同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃,采用电子枪轰击第三膜层的膜材,第三膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤B中第二膜层的表面,同时控制第三膜层蒸镀的速率为2.5?/S,第三膜层最终形成后的厚度为10-100nm;其中,所述第三膜层的膜材为五氧化三钛,形成五氧化三钛层;
D、镀第四膜层:
保持真空镀膜舱内的压力值小于或等于5.0×10-3帕,同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃,采用电子枪轰击第四膜层的膜材,第四膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤C中第三膜层的表面,同时控制第四膜层蒸镀的速率为7?/S,第四膜层最终形成后的厚度为50-100nm;其中,所述第四膜层的膜材为二氧化硅,形成二氧化硅层;
E、镀第五膜层:
保持真空镀膜舱内的压力值大于或等于5.0×10-3帕,同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃,采用电子枪轰击第五膜层的膜材银的氧化物,银的氧化物蒸发后分解,以纳米银形式在步骤D中第四膜层的表面形成薄层,同时控制第五膜层蒸镀的速率为1?/S,第五膜层最终形成后的厚度为5-20nm;
F、镀第六膜层:
保持真空镀膜舱内的压力值小于或等于5.0×10-3帕,同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃,采用电子枪轰击第六膜层的膜材,第六膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤E中第五膜层的表面,同时控制第六膜层蒸镀的速率为1?/S,第六膜层最终形成后的厚度为10-100nm;其中,所述第六膜层的膜材为ITO,形成ITO层;
G、镀第七膜层:
保持真空镀膜舱内的压力值小于或等于5.0×10-3帕,同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃,采用电子枪轰击第七膜层的膜材,第七膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤F中第六膜层的表面,同时控制第七膜层蒸镀的速率为7?/S,第六膜层最终形成后的厚度为10-50nm;其中,所述第六膜层的膜材为三氧化二铝、氧化锆、二氧化硅高硬度晶体或者一氧化硅高硬度晶体,形成高硬度层;
H、镀第八膜层:
保持真空镀膜舱内的压力值小于或等于5.0×10-3帕,同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃,采用电阻加热第八膜层的膜材,第八膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤G中第七膜层的表面,同时控制第八膜层蒸镀的速率为1.5?/S,第八膜层最终形成后的厚度为3-10nm;其中,所述第八膜层的膜材为氟化镁,形成氟化物层。
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