[发明专利]一种多功能仪表盘或照相机视窗及其制备方法

说明书

技术领域

本发明涉及一种仪表盘或照相机视窗技术领域，尤其是涉及一种多功能仪表盘或照相机视窗及其制备方法。

背景技术

现有的仪表盘或照相机视窗较少有杀菌功能，人们在使用过程中通过触摸的需要容易从仪表盘或照相机视窗上感染细菌，或带给仪表盘或照相机视窗外表面细菌，给人体造成交叉感染，影响使用者身心健康。

现有的仪表盘或照相机视窗的透光性能不好，容易炫目。现有的仪表盘或照相机视窗也不具有防辐射、防紫外线等功能。

此外，人们的手触摸到仪表盘或照相机视窗时，手上的油污和水渍很容易在仪表盘或照相机视窗上留下痕迹，这些痕迹又很不容易擦除掉，这样就会影响使用者观察事物的效果，给使用者带来不便。长期使用后，仪表盘或照相机视窗不仅容易滋生细菌，而且还容易吸附周围环境中的灰尘等细小颗粒，从而不利于使用者的身体健康。

另外，现有的仪表盘或照相机视窗在使用过程中很容易被刮花或蹭花，影响美观，更严重的是，仪表盘或照相机视窗的表面刮花或蹭花后，内层暴露在空气中，容易受腐蚀，影响使用寿命。因此市场上迫切需要出现多功能的仪表盘或照相机视窗来取代现有的仪表盘或照相机视窗。

发明内容

为了解决现有技术中的不足，本发明的目的在于提供一种表面带多层镀膜层的多功能仪表盘或照相机视窗及其制备方法。

为实现上述目的，本发明采用以下技术方案：

一种多功能仪表盘或照相机视窗，包括基片，所述基片的外表面从里到外依序设有第一膜层、第二膜层、第三膜层、第四膜层、第五膜层、第六膜层、第七膜层和第八膜层；所述第一膜层和第三膜层均为五氧化三钛层，厚度均为10-100nm；所述第二膜层和第四膜层均为二氧化硅层，厚度均为50-100nm；所述第五膜层为纳米银层，第五膜层的厚度为5-20nm；所述第六膜层为ITO层，厚度为10-100nm；所述第七膜层为高硬度层，厚度为10-50nm；所述第八膜层为氟化物层，厚度为3-10nm。

所述的五氧化三钛层的膜材为五氧化三钛，并由电子枪蒸镀成型，二氧化硅层的膜材为二氧化硅，并由电子枪蒸镀成型。

所述纳米银层的膜材为银的氧化物，并使用电子枪蒸镀成型，所述银的氧化物为Ag₂O、AgO或Ag₂O₃，所述ITO层的膜材为ITO，并由电子枪蒸镀成型。

所述高硬度层的膜材为三氧化二铝、氧化锆、二氧化硅晶体或一氧化硅晶体，并由电子枪蒸镀成型。

所述氟化物层的膜材为氟化镁，并由电阻加热蒸镀成型。

所述基片由树脂或玻璃成型。

所述基片由树脂成型时，所述制备方法具体包括以下步骤：

1）对基片进行清洗、干燥；

2）对基片的外表面进行镀膜；

A、镀第一膜层：

将真空镀膜舱内的压力值调整至小于或等于5.0×10^-3帕，并控制真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第一膜层的膜材，第一膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于基片的外表面，同时控制第一膜层蒸镀的速率为2.5?/S，第一膜层最终形成后的厚度为10-100nm；其中，所述第一膜层的膜材为五氧化三钛，形成五氧化三钛层；

B、镀第二膜层：

保持真空镀膜舱内的压力值小于或等于5.0×10^-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第二膜层的膜材，第二膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤A中第一膜层的表面，同时控制第二膜层蒸镀的速率为7?/S，第二膜层最终形成后的厚度为50-100nm；其中，所述第二膜层的膜材为二氧化硅，形成二氧化硅层；

C、镀第三膜层：

保持真空镀膜舱内的压力值小于或等于5.0×10^-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第三膜层的膜材，第三膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤B中第二膜层的表面，同时控制第三膜层蒸镀的速率为2.5?/S，第三膜层最终形成后的厚度为10-100nm；其中，所述第三膜层的膜材为五氧化三钛，形成五氧化三钛层；

D、镀第四膜层：